[发明专利]一种插拔式光模块的可调滤波EMI弹片在审

专利信息
申请号: 202211220408.0 申请日: 2022-09-28
公开(公告)号: CN115576061A 公开(公告)日: 2023-01-06
发明(设计)人: 熊达;李林科;吴天书;杨现文;张健 申请(专利权)人: 武汉联特科技股份有限公司
主分类号: G02B6/42 分类号: G02B6/42
代理公司: 合肥兴东知识产权代理有限公司 34148 代理人: 商德平
地址: 430000 湖北省武汉市东*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 插拔式光 模块 可调 滤波 emi 弹片
【说明书】:

发明公开了一种插拔式光模块的可调滤波EMI弹片,包括光模块,还包括EMI弹片总成;所述EMI弹片总成包括弹片和随形线圈,所述弹片的两端分别设有第一折弯部,所述第一折弯部上固定有引脚,所述随形线圈的两端分别设有第二折弯部,所述随形线圈镶嵌安装在所述弹片的内壁面,所述引脚插接至所述第二折弯部的端部。本发明中,通过改变随形线圈通电电流的大小,进而改变电流磁场作用下随形线圈的伸缩形变程度,从而带动弹片进行伸张舒展或者收缩折叠,既可灵活调节EMI弹片总成的栅条间隙或褶皱缝隙,又易于实现对指定波长范围的电磁波的过滤屏蔽。

技术领域

本发明涉及光模块EMI弹片技术领域,具体地说涉及一种插拔式光模块的可调滤波EMI弹片。

背景技术

随着金属封装光收发模块的传输速率加快,高传输速率的光收发模块容易产生超标EMI(电磁干扰)现象,特别是插拔式结构的高速率、小型化、高密集度的光模块。受限于光模块的生产及组装结构,相邻拼装结构的壳体之间不可避免地存在缝隙,但即便是细微的结构缝隙,也容易因电磁波泄漏而产生EMI问题。

解决EMI最有效的方法之一就是电磁屏蔽法。电磁屏蔽是利用屏蔽体对电磁波产生衰减作用,从而减少电磁波造成的干扰或伤害。在现有技术中,一般选择在壳体拼装间隙位置处安装EMI弹片来屏蔽电磁波,但目前插拔式光模块所使用的EMI弹片的栅条间隙或褶皱缝隙一般都是不可调节的,致使难以实现对指定波长范围的电磁波的过滤。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种易于实现对指定波长范围的电磁波过滤的插拔式光模块的可调滤波EMI弹片。

为了解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案:一种插拔式光模块的可调滤波EMI弹片,包括光模块,还包括EMI弹片总成,所述EMI弹片总成安装在所述光模块上;

所述EMI弹片总成包括弹片和随形线圈,所述弹片呈C字型结构,所述弹片的两端分别设有第一折弯部,所述第一折弯部上固定有引脚,所述随形线圈呈C字型结构,所述随形线圈的两端分别设有第二折弯部,所述随形线圈镶嵌安装在所述弹片的内壁面,所述第二折弯部贴合安装在所述第一折弯部的内壁面,所述引脚插接至所述第二折弯部的端部。

进一步地,所述弹片上沿长度方向居中设有纵向褶皱部,所述纵向褶皱部延伸至所述第一折弯部,所述纵向褶皱部呈向外拱起的结构。

进一步地,所述弹片上沿宽度方向均匀间隔分布有多个横向褶皱部,所述横向褶皱部延伸至所述纵向褶皱部,并与所述纵向褶皱部交汇,且交汇位置处开设有条形孔,所述横向褶皱部呈向外拱起的结构。

进一步地,位于所述纵向褶皱部上各弯折位置处的各所述条形孔均形变成为缺口。

进一步地,所述第一折弯部的端部设有所述缺口,所述缺口内固定有两个间隔而设的所述引脚。

进一步地,所述随形线圈的外围尺寸与所述弹片的内围尺寸吻合匹配,所述随形线圈包括多节首尾相接的回形线圈节,所述回形线圈节镶嵌安装在所述纵向褶皱部的内部。

进一步地,所述随形线圈还包括设置在所述第二折弯部上的连接线圈节,所述连接线圈节具有两个,分别位于所述随形线圈的两端,并分别固定连接至所述回形线圈节。

进一步地,连接线圈节贴合所述第一折弯部而设,并嵌装在位于所述第一折弯部端部的所述缺口内,连接线圈节的两端分别开设有插接口,所述引脚匹配插接至所述插接口内。

进一步地,所述EMI弹片总成还包括PCB和电路软带,所述PCB具有两个,分别位于所述弹片的两端,并分别经由所述电路软带连接至所述连接线圈节,且任一所述PCB分别连接有至少两个的所述电路软带。

进一步地,所述光模块包括底座和上盖,所述EMI弹片总成嵌装在所述底座上。

本发明的有益效果体现在:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉联特科技股份有限公司,未经武汉联特科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211220408.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top