[发明专利]椭圆偏光板在审
申请号: | 202211209536.5 | 申请日: | 2017-07-10 |
公开(公告)号: | CN115390178A | 公开(公告)日: | 2022-11-25 |
发明(设计)人: | 葛西辰昌;幡中伸行 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02F1/13363;G02F1/1335;H01L51/52;H01L27/32 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 牛蔚然;李国卿 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 椭圆 偏光 | ||
1.椭圆偏光板,其是在透明基材上依次设置有取向层A、相位差层、取向层B及偏光层的椭圆偏光板,
所述椭圆偏光板在波长550nm处的椭圆率为79%以上,
所述偏光层与所述相位差层的光轴实质上不是平行关系,
所述偏光层与相位差层的光轴所成的角为43°~47°的范围,
所述相位差层为由聚合性液晶化合物的聚合物构成的膜,
所述取向层B为具有80nm~800nm的厚度的膜,
所述偏光层是二向色性色素在由聚合性液晶化合物的聚合物构成的膜中取向而形成的,
所述椭圆偏光板在所述相位差层之后具有所述取向层B,并在所述取向层B之后具有所述偏光层,
所述相位差层满足以下式子中的全部,
100nmRe(550)160nm…(1)
Re(450)/Re(550)≤1.0…(2)
1.00≤Re(650)/Re(550)…(3)
Re(450)、Re(550)、Re(650)分别表示波长450nm、550nm、650nm处的面内延迟。
2.如权利要求1所述的椭圆偏光板,其中,所述透明基材、取向层A、相位差层、取向层B及偏光层的平均折射率均为1.4~1.7的范围。
3.如权利要求1或2所述的椭圆偏光板,其中,相邻的层的折射率差为0.2以下。
4.如权利要求1或2所述的椭圆偏光板,其中,所述取向层A为光取向膜。
5.如权利要求1或2所述的椭圆偏光板,其中,所述取向层A及取向层B为含有肉桂酰基的光取向膜。
6.如权利要求1或2所述的椭圆偏光板,其中,所述取向层A及取向层B为含有重均分子量为20000~50000的树脂的光取向膜。
7.如权利要求1或2所述的椭圆偏光板,其中,所述偏光层为由近晶相液晶状态的聚合物构成的膜。
8.如权利要求1或2所述的椭圆偏光板,其中,所述二向色性色素为偶氮色素。
9.液晶显示装置,其具备权利要求1~8中任一项所述的椭圆偏光板。
10.有机EL显示装置,其具备权利要求1~9中任一项所述的椭圆偏光板。
11.椭圆偏光板的制造方法,所述椭圆偏光板是在透明基材上依次设置有取向层A、相位差层、取向层B及偏光层的椭圆偏光板,
所述椭圆偏光板在波长550nm处的椭圆率为79%以上,
所述相位差层满足以下式子中的全部,
100nmRe(550)160nm…(1)
Re(450)/Re(550)≤1.0…(2)
1.00≤Re(650)/Re(550)…(3)
Re(450)、Re(550)、Re(650)分别表示波长450nm、550nm、650nm处的面内延迟,
所述制造方法包括下述工序:
工序(1),在透明基材上涂布包含取向材料A及溶剂的组合物,进行干燥,然后照射偏振UV光,形成取向层A;
工序(2),在所述取向层A上涂布含有聚合性液晶化合物、聚合引发剂及溶剂的组合物,进行干燥,然后进行UV照射,在液晶状态下使其聚合,由此形成相位差层;
工序(3),涂布包含取向材料B及溶剂的组合物,进行干燥,然后照射偏振UV光,形成取向层B;和
工序(4),在所述取向层B上涂布含有聚合性液晶化合物、二向色性色素、聚合引发剂及溶剂的组合物,进行干燥,然后进行UV照射,在液晶状态下使其聚合,由此形成偏光层。
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