[发明专利]电磁辐射反距离权重延展空间插值方法及装置在审

专利信息
申请号: 202211185280.9 申请日: 2022-09-27
公开(公告)号: CN115526045A 公开(公告)日: 2022-12-27
发明(设计)人: 段平;李佳;张洁 申请(专利权)人: 云南师范大学
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G06F119/02
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 薛平
地址: 650500 云*** 国省代码: 云南;53
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电磁辐射 距离 权重 延展 空间 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种电磁辐射反距离权重延展空间插值方法,其特征在于,包括:

获取电磁辐射监测区域的不均匀电磁辐射采样数据;

根据期望最近邻近距离在采样数据范围内生成规则分布的预设点;

根据Ripley’s K方法对所述预设点由外向内分为多个层次;

对所述多个层次的预设点采用IDW延展空间插值方法生成每个预设点的电磁辐射值;每个预设点的电磁辐射值用于构建电磁辐射空间场。

2.如权利要求1所述的电磁辐射反距离权重延展空间插值方法,其特征在于,根据期望最近邻近距离在采样数据范围内生成规则分布的预设点,包括:

计算采样数据的最大外包矩形;

计算出采样数据的期望最近邻近距离,以每个预设点之间的间隔为期望最近邻近距离,在最大外包矩形内生成规则分布的点;

从所述规则分布的点中剔除位于采样数据范围外的点,得到位于采样数据范围内的预设点作为最终的规则分布的预设点。

3.如权利要求1所述的电磁辐射反距离权重延展空间插值方法,其特征在于,根据Ripley’s K方法对所述预设点由外向内分为多个层次,包括:

使用Ripley’s K函数计算出观测K值曲线和预测K值曲线;

计算电磁辐射采样数据的最大聚集距离;所述最大聚集距离为观测K值曲线与预测K值曲线的差值为正并且最大所对应的距离;

以所述最大聚集距离为标准,将所述规则分布的预设点由外向内分成多层,其中,第一层的预设点包围着第二层的预设点,第二层的预设点包围着第三层的预设点,以此类推。

4.如权利要求1所述的电磁辐射反距离权重延展空间插值方法,其特征在于,对所述多个层次的预设点采用IDW延展空间插值方法生成每个预设点的电磁辐射值,包括:

利用电磁辐射采样数据根据IDW方法生成第一层预设点的电磁辐射值;

将生成的第一层预设点加入到采样数据中生成新的采样数据;

利用新的采样数据根据IDW方法生成第二层预设点的电磁辐射值;

每生成一层预设点的电磁辐射值都要加入到采样数据中,用于生成下一层预设点的电磁辐射值,不断重复,直到每一层预设点的电磁辐射值都被计算出来。

5.如权利要求4所述的电磁辐射反距离权重延展空间插值方法,其特征在于,利用电磁辐射采样数据根据IDW方法生成第一层预设点的电磁辐射值,包括按照如下公式生成第一层预设点的电磁辐射值:

其中,g代表预设点,s代表采样数据点,gele(g)是预设点的电磁辐射值,q代表离预设点g最近的数量,elei是离预设点g最近q个采样数据si点的电磁辐射值,di表示离预设点g最近q个数据中第i个点与预设点的距离。

6.一种电磁辐射反距离权重延展空间插值装置,其特征在于,包括:

获取单元,用于获取电磁辐射监测区域的不均匀电磁辐射采样数据;

生成单元,用于根据期望最近邻近距离在采样数据范围内生成规则分布的预设点;

分层单元,用于根据Ripley’s K方法对所述预设点由外向内分为多个层次;

插值单元,用于对所述多个层次的预设点采用IDW延展空间插值方法生成每个预设点的电磁辐射值;每个预设点的电磁辐射值用于构建电磁辐射空间场。

7.如权利要求6所述的电磁辐射反距离权重延展空间插值装置,其特征在于,所述生成单元具体用于:

计算采样数据的最大外包矩形;

计算出采样数据的期望最近邻近距离,以每个预设点之间的间隔为期望最近邻近距离,在最大外包矩形内生成规则分布的点;

从所述规则分布的点中剔除位于采样数据范围外的点,得到位于采样数据范围内的预设点作为最终的规则分布的预设点。

8.一种计算机设备,包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序,其特征在于,所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求1至5任一所述方法。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于云南师范大学,未经云南师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211185280.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top