[发明专利]一种过曝抑制成像的方法

权利要求书

1.一种过曝抑制成像装置，包括安装支架，所述安装支架中心处设置有安装槽，所述安装槽用于放置相机，其特征在于：还包括若干子光源组件，所述子光源组件环绕所述安装支架设置，所述子光源组件包括光源支臂及子光源，所述光源支臂一端转动设置在所述安装支架上，另外一端用于固定所述子光源。

2.根据权利要求1所述的过曝抑制成像装置，其特征在于：所述安装支架上设置有若干光强传感器，所述光强传感器用于检测所述安装支架上各点位光源照明下光源光线经检测表面反射回来的光强度。

3.根据权利要求2所述的过曝抑制成像装置，其特征在于：所述子光源组件沿所述安装支架外周圆周阵列设置。

4.根据权利要求3所述的过曝抑制成像装置，其特征在于：所述安装支架的侧边设置有限位板，每侧所述限位板成对设置，所述光源支臂的其中一端设置有限位轴，所述限位轴转动设置在所述限位板上。

5.一种过曝抑制成像装置的动态照明方法，其特征在于：包含以下步骤：

S1：利用各光源单独提供照明，根据光强传感器反馈的反光强度调整各光源照明强度，使各光源下反光强度保持一致后进行预成像；

S2：计算每一位置光源照明下预成像所呈图像的反光情况，获得各光源照明效果的先验信息；

S3：根据先验信息，选择不产生高反光问题的光源进行照明；

S4：若单光源可以避免高反光过曝情况时，则选择响应的光源i进行照明补光；

S5：若各光源单独照明都无法避免高反光情况，则在两不同光源(光源m、光源n)独立照明下分别成像。

6.根据权利要求5所述的过曝抑制成像装置的动态照明方法，其特征在于：所述S4中的决策公式为：

Size(Ii)＝0,StdDev(Ii)＝min(StdDev(Ij)) (1)；

上述公式中，I_i表示光源i补光时所得图像；Size(I_i)表示图像I_i中过曝区域面积，StdDev(Ii)表示图像Ii的整体标准差。

7.根据权利要求5所述的过曝抑制成像装置的动态照明方法，其特征在于：所述S5中选取的双光源m，n的组合照明方案进行补光，决策方程式可以表示为：

LC＝max(k_O×OSR(Xm,Xn)+k_M×MSR(Xm,Xn)) (2)；

上述公式中，LC(Light Combination)为决策的光源组合，OSR为光斑总体强度，表征两光源下成像的总体高反光情况，MSR为光斑重合强度表征两光源下的光斑重合情况，k_O与k_M分别为决策系统中OSR与MSR权重，ko+k_M＝1。

8.根据权利要求7所述的过曝抑制成像装置的动态照明方法，其特征在于：所述

所述

其中：α和β分别为对两光斑进行“与操作(Size_and(X_m,X_n))”和“或操作(Size_or(X_m,X_n))后”归一化的总光斑面积以及重合光斑面积，

其中，

kα、kβ分别为光斑总面积惩罚系数与重合光斑面积惩罚系数，惩罚系数越大，则α，β的增大对总体决策结果的衰减作用越强烈，Size_img为图像大小。