[发明专利]除菌系统在审
申请号: | 202211107166.4 | 申请日: | 2022-09-08 |
公开(公告)号: | CN116122407A | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
发明(设计)人: | 岩端智大;浦田宗幸;音羽勇哉 | 申请(专利权)人: | TOTO株式会社 |
主分类号: | E03F9/00 | 分类号: | E03F9/00;E03F5/04 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 吕琳;朴秀玉 |
地址: | 日本福冈*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 系统 | ||
提供一种能在通过超声波去掉封水形成部的封水水位附近的内壁的污垢后将除菌水或除菌气体供给至洗净后的内壁,能抑制内壁的细菌、霉菌的增殖的除菌系统。本发明的除菌系统(20)具备:封水形成部(14);水位上升部(26),其形成为通过流入封水形成部内的水,封水形成部内的水位容易从第一水位上升至比第一水位高的第二水位(W2);超声波振荡器(64);除菌装置(22),将除菌水或除菌气体供给直至封水形成部内的水位高度的内壁(14e);以及控制部(29),控制部(29)在水位比第一水位上升了的状态下的至少一部分期间进行超声波照射器的超声波的照射,并且在朝向第二水位的水位上升至少结束后停止除菌装置(22)的除菌水或除菌气体的供给。
技术领域
本发明涉及一种对浴室进行除菌的除菌系统。
背景技术
如专利文献1所述,已知在设于浴室的地面的排水装置中设置超声波振荡器。在该排水装置中设有水位调整部,水位调整部根据水的流入使排水主体部内的水位上升,洗净封水水位附近的内壁的污垢。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2020-176481号公报
然而,在上述专利文献1所述的装置中,即使能去掉封水水位附近的内壁的污垢,该污垢也可能残留于封水形成部,而再附着于封水水位附近的内壁。在如此再附着于洗净后的内壁的情况下,存在产生内壁的细菌、霉菌的增殖这一问题。
发明内容
本发明为了解决以往技术的问题点而完成,其目的在于,提供一种除菌系统,其能在通过超声波去掉封水形成部的封水水位附近的内壁的污垢后,将除菌水或除菌气体供给至洗净后的内壁,能抑制内壁的细菌、霉菌的增殖。
为了解决上述的问题点,本发明是一种除菌系统,对设于浴室的洗澡场所地面的下游侧的封水形成部内进行除菌,其特征在于,具备:上述封水形成部,在第一水位形成封水水位;水位上升部,其形成为通过流入上述封水形成部内的水,上述封水形成部内的水位容易从上述第一水位上升至比上述第一水位高的第二水位;超声波振荡器,向上述封水形成部内的水照射超声波;除菌装置,将除菌水或除菌气体供给直至上述封水形成部内的水面;以及控制部,控制上述超声波振荡器和上述除菌装置,上述控制部在水位比上述第一水位上升了的状态下的至少一部分期间进行上述超声波振荡器的超声波的照射,并且在朝向上述第二水位的水位上升至少结束后停止上述除菌装置的除菌水或除菌气体的供给。
在被如此配置的本发明的一个实施方式中,控制部在朝向第二水位的水位上升中的至少一部分期间进行上述超声波振荡器的超声波的照射,因此在封水形成部内的水位上升至比作为封水水位的第一水位高的水位的状态下照射超声波,能通过超声波对在封水形成部中易脏且在维持封水水位的情况下难以洗净的封水的高度的内壁进行更有效的洗净。而且,控制部在朝向第二水位的水位上升至少结束后停止除菌装置的除菌水或除菌气体的供给,因此能在通过超声波去掉封水形成部的封水水位附近的内壁的污垢,而且水位上升结束后,将除菌水或除菌气体供给至洗净后的内壁。由此,即使假设通过超声波洗净而剥离的污垢再附着于内壁,也能抑制内壁的细菌、霉菌的增殖。
在本发明中,优选的是,还具备:供水装置,其将水供给至上述封水形成部,上述控制部在上述除菌装置的除菌水或除菌气体的供给停止后通过上述供水装置将水供给至上述封水形成部。
在被如此配置的本发明的一个实施方式中,还具备:供水装置,其在上述除菌装置的除菌水或除菌气体的供给停止后,将水供给至上述封水形成部。由此,能将通过由除菌装置供给的除菌水或除菌气体而除去的细菌、霉菌等污垢排出,能抑制这样的污垢附着于内壁,能更抑制内壁的细菌、霉菌的增殖。
在本发明中,优选的是,上述除菌装置被配置为吐出除菌气体或在吐出除菌水后通过使该除菌水气化来生成除菌气体。
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