[发明专利]基于数字工厂智联网纳米镀膜产线系统

权利要求书

1.基于数字工厂智联网纳米镀膜产线系统，其特征在于，包括镀膜系统、工件传递系统和互联网云技术自动控制系统，所述镀膜系统、工件传递系统均与互联网云技术自动控制系统电性连接，所述镀膜系统用于对工件表面镀膜处理，所述工件传递系统用于输出传递工件，所述互联网云技术自动控制系统用于智能控制镀膜系统和工件传递系统。

2.根据权利要求1所述的基于数字工厂智联网纳米镀膜产线系统，其特征在于，所述镀膜系统包括镀膜腔体和离子沉膜系统，所述离子沉膜系统设于镀膜腔体内，所述镀膜腔体用于放置工件，所述离子沉膜系统用于均匀喷射镀膜粒子。

3.根据权利要求2所述的基于数字工厂智联网纳米镀膜产线系统，其特征在于，所述镀膜腔体为不锈钢材质，所述镀膜腔体外部设有加强筋。

4.根据权利要求2所述的基于数字工厂智联网纳米镀膜产线系统，其特征在于，所述镀膜腔体内设有直线往返机构，所述直线往返机构用于驱动工件直线往返运动。

5.根据权利要求2所述的基于数字工厂智联网纳米镀膜产线系统，其特征在于，所述镀膜腔体内设有真空抽气系统，所述真空抽气系统与所述互联网云技术自动控制系统电性连接，所述真空抽气系统用于控制工件镀膜不同阶段的真空条件，所述真空抽气系统包括精抽泵、增压泵、机械泵和维持泵。

6.根据权利要求2所述的基于数字工厂智联网纳米镀膜产线系统，其特征在于，所述镀膜腔体外侧还设有冷却系统，所述镀膜腔体内设有温度传感器，所述温度传感器与冷却系统电性连接。

7.根据权利要求2所述的基于数字工厂智联网纳米镀膜产线系统，其特征在于，所述离子沉膜系统包括两对对称设置的圆柱旋转磁控溅射靶和两路电弧离子靶，所述圆柱旋转磁控溅射靶的磁性体为钕铁硼磁铁，每路所述电弧离子靶上设有五个弧靶。

8.根据权利要求2所述的基于数字工厂智联网纳米镀膜产线系统，其特征在于，所述工件传递系统包括上述的镀膜腔体，还包括进料腔体和出料腔体，所述镀膜腔体、进料腔体和出料腔体分别采用独立电动机驱动，并通过变频器无极调速，所述进料腔体和出料腔体与所述镀膜腔体之间设有自动活动门。

9.根据权利要求8所述的基于数字工厂智联网纳米镀膜产线系统，其特征在于，所述互联网云技术自动控制系统包括PLC编程控制系统，所述PLC编程控制系统安装在所述镀膜腔体上，所述PLC编程控制系统设有保护系统。

10.根据权利要求9所述的基于数字工厂智联网纳米镀膜产线系统，其特征在于，所述互联网云技术自动控制系统还包括多个数据借口、多个传感器、云端数据库和数据平台，所述数据借口和多个传感器分别安装在纳米镀膜生产线设备上，所述数据借口和传感器与云端数据库相连接。