[发明专利]一种正极集流体铝箔的预处理方法及正极集流体和电池

权利要求书

1.一种正极集流体铝箔的预处理方法，其特征在于，所述预处理方法包括:

S1：使用紫外线准分子灯照射铝箔表面，去除铝箔表面的油污；

S2：使用激光清洗机清洗S1得到的铝箔，去除铝箔表面的不规则氧化层；

S3：将S2得到的铝箔作为阳极，使用导电金属材料作为阴极，在混酸溶液中进行直流氧化；

S4：将S3得到的铝箔置于超声清洗机中，30℃-50℃加热超声清洗15min；

S5：采用真空干燥法去除S4得到的铝箔表面的水分，然后在铝箔表面涂覆功能化硅烷偶联剂的涂层，得到预处理的正极集流体铝箔。

2.根据权利要求1所述的预处理方法，其特征在于，所述紫外线准分子灯的紫外线波长为172nm；所述照射的时长在1s-5s之间；

所述激光清洗机的功率在50W-300W之间；所述激光清洗机的脉宽在50ns-350ns之间；所述激光清洗机的清洗速度在2m/s-3m/s之间。

3.根据权利要求1所述的预处理方法，其特征在于，所述导电材料包括钛、铅、不锈钢、石墨中的一种；

所述混酸溶液包括：草酸、硫酸、磷酸、铬酸、柠檬酸、乙二酸铵、硼酸、乙酸、氢氟酸、苯六羧酸、磺基水杨酸、磷钼酸中的至少两种混合；

所述直流氧化的电压为20V，电流密度为20mA/cm²。

4.根据权利要求1所述的预处理方法，其特征在于，所述真空干燥法的温度在40℃-120℃之间。

5.根据权利要求1所述的预处理方法，其特征在于，所述功能化硅烷偶联剂的通式为Y(CH₂)nSiX₃,其中，X为可水解的基团，Y为功能基团，0≤n≤3；

所述X包括：氯基、甲氧基、乙氧基、甲氧基乙氧基、乙酰氧基中的一种或多种；。

所述功能基团Y包括：乙烯基、氯丙基、环氧基及其衍生基团、甲基丙烯酸酯基、伯胺基、二氨基、巯基、阳离子苯乙烯基、环脂环氧基中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的预处理方法，其特征在于，所述功能化硅烷偶联剂的涂层的浆料的制备方法为：将所述功能化硅烷偶联剂溶于溶剂中，配置成质量百分比为2％的溶液；

所述溶剂包括：无水甲乙酮、无水石油醚、质量比为80％：20％的无水乙醇和纯水的混合溶剂中的一种。

7.根据权利要求1所述的预处理方法，其特征在于，所述功能化硅烷偶联剂的涂层的涂布工艺包括：浸涂、辊涂、微凹涂布、刮涂中的一种。

8.一种正极集流体，其特征在于，所述正极集流体包含上述权利要求1-7任一所述的预处理方法得到的预处理的正极集流体铝箔。

9.一种正极极片，其特征在于，所述正极极片包含上述权利要求8所述的正极集流体。

10.一种动力电池，其特征在于，所述动力电池包含上述权利要求9所述的正极极片。