[发明专利]衬底浮起装置

说明书

本发明提供一种可以防止与输送中的衬底发生碰撞并且可以均匀地形成施加到浮起的衬底的下表面的流体的压力的衬底浮起装置。为此，本发明公开了以下特征，包括：主体，通过下部流入口流入的流体填充其内部空间；浮起板，配置在所述内部空间的上部，并且具有使填充到所述内部空间的流体通过并利用喷射流体的喷射压力使放置在上侧的衬底浮起的多个喷射孔；以及流动引导部件，配置在所述内部空间中，使通过所述下部流入口流入到所述内部空间的流体分散，并使从所述多个喷射孔喷射的流体的喷射压力均匀。

技术领域

本发明涉及一种衬底处理装置，具体而言，涉及一种可以防止与输送中的衬底发生碰撞并且可以均匀地形成施加到浮起的衬底的下表面的流体的压力的衬底浮起装置。

背景技术

用于显示装置的衬底在放置于包括滚轮的输送装置上的状态下在腔室内部移动或循环的同时经过蒸镀、烘烤、曝光、显影、蚀刻等多个处理步骤。

带有滚轮的衬底输送装置在滚轮与衬底直接接触的状态下利用摩擦力输送衬底，而由于滚轮的设置间隔或衬底的自重，衬底在滚轮之间的部分或衬底的边缘部分处会相对下垂，并且衬底在滚轮部分处会相对升高。

当被输送的衬底的一部分下垂时，衬底会与滚轮或输送装置的支撑框架发生碰撞，从而会损坏衬底。此外，当输送的衬底的一部分升高时，与在清洗或蚀刻步骤时喷射的清洗液或蚀刻液的碰撞压力会产生偏差，从而会损坏衬底。

为了解决该问题，提出了一种向衬底的下表面喷射高压流体而在使衬底浮起的状态下进行输送的所谓的非接触衬底输送装置。

图1是示出现有的衬底浮起装置的示意图。

参照图1，现有的衬底浮起装置10包括喷射室12，该喷射室12具有配置在衬底的下侧的多孔浮起板13。即，从外部流体供给部供给的流体通过下部流入口11填充到喷射室12的内部，填充到喷射室12的流体在通过多孔浮起板13的细微孔14的同时以较强的压力喷射，可以利用这种流体的喷射压力而使衬底浮起到多孔浮起板13的上侧。

然而，这种现有的衬底浮起装置在流体通过下部流入口11完全填充到喷射室12的内部之前，通过浮起板13的细微孔14开始喷射流体，因而在从浮起板13的细微14喷射流体的过程中，在衬底的整个下表面上喷射压力分布(PR)可能会变得不均匀。即，在与下部流入口11邻接的浮起板13的中央区域会产生相对较强的喷射压力，并且在与下部流入口11分开的浮起板13的边缘区域会产生相对较弱的喷射压力。

这样，当通过浮起板13的细微孔14的流体的喷射压力不均匀地分布在衬底的整个下表面上时，被输送的衬底的水平度会偏移，因而与衬底输送装置的碰撞或与清洗液或蚀刻液的碰撞压力会产生偏差，从而会损坏衬底。

特别是在最近，对较大面积衬底的需求增大，而在这种大面积衬底的情况下，由于上述原因而在衬底的整个下表面上流体喷射压力分布的偏差会形成得更大。

另外，通过相对较宽地确保填充流体的喷射室12的内部空间，可以使从浮起板13的细微孔14喷射的流体的喷射压力在某种程度上变得均匀，然而在这种情况下，存在为了使衬底浮起而必须供给相对较多的流体的问题，并且存在必须对喷射室12的内部空间进行追加加工和制造的问题。

作为现有技术文献，有韩国登记专利公报第0525926号(2005年11月2日公告)。

发明内容

发明所要解决的技术问题

用于解决上述问题的本发明的目的在于提供一种可以在浮起的衬底的整个下表面形成均匀的流体喷射压力的衬底浮起装置。

本发明所要解决的问题不限于上述技术问题，本发明所属领域的技术人员可以通过以下描述明确地理解未提及的其他的技术问题。

用于解决问题的手段