[发明专利]一种反光硅胶膜

权利要求书

1.一种反光硅胶膜，其特征在于：由上到下依次包括玻璃微珠层、上丙烯酸树脂胶层、硅胶层、下丙烯酸树脂胶层、底膜层，所述上丙烯酸树脂胶层和下丙烯酸树脂胶层均由以下重量份的原料组成：甲基丙烯酸三氟乙酯12～30份、丙烯酸正丁酯50～70份、抗菌单体5～16份、二乙烯基四甲基二硅氧烷3～8份、引发剂0.8～5份、有机溶剂80～100份；

所述抗菌单体是以反应物A为原料制得的，反应物A的结构式如下：

式中R₁为甲基或乙基，R₂为-CH₃(CH₂)_m，m为正整数且7≤m≤15，X为Cl或Br；

所述抗菌单体的具体制备方法为：(1)将反应物A加入装有水的反应器内，加热至40～60℃，搅拌完全溶解后滴加二苯甲胺的水溶液，滴加结束后继续反应1～3h，得到中间体；(2)将中间体、异氰酸酯丙烯酸乙酯、二月桂酸二丁基锡、1,4-苯醌加入装有乙腈的反应器内，在60～80℃反应4～8h，即得抗菌单体；

所述硅胶层由以下重量份的原料组成：乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷80～90份、改性聚甲基氢硅氧烷10～20份、铂金催化剂0.3～0.8份、乙炔基环己醇0.1～0.5份、白炭黑18～36份，所述改性聚甲基氢硅氧烷的制备方法包括以下步骤：聚甲基氢硅氧烷、阻聚剂和催化剂加入装有甲苯的反应器内，通入氮气排出空气，加热至70～90℃并开启搅拌，然后滴加甲基丙烯酸羟丙酯，滴加结束后继续反应3～5h，即得改性聚甲基氢硅氧烷。

2.根据权利要求1所述的一种反光硅胶膜，其特征在于：所述反应物A与二苯甲胺的摩尔比为1:1.2～1.5。

3.根据权利要求1所述的一种反光硅胶膜，其特征在于：所述中间体与异氰酸酯丙烯酸乙酯的摩尔比为1:1.2～1.5。

4.根据权利要求1所述的一种反光硅胶膜，其特征在于：以中间体和异氰酸酯丙烯酸乙酯总质量100％计，所述二月桂酸二丁基锡的添加量为0.03～0.06％，所述1,4-苯醌的添加量为0.2～0.5％。

5.根据权利要求1所述的一种反光硅胶膜，其特征在于：所述引发剂为过氧化二苯甲酰、过氧化二月桂酰、偶氮二异丁腈、偶氮二异庚腈中的任意一种或两种以上以任意比混合而成。

6.根据权利要求1所述的一种反光硅胶膜，其特征在于：所述下丙烯酸树脂胶层与底膜层之间设有偶联剂层。

7.根据权利要求1所述的一种反光硅胶膜，其特征在于：所述聚甲基氢硅氧烷、甲基丙烯酸羟丙酯的质量比为1:0.25～0.35，所述阻聚剂的添加量为甲基丙烯酸羟丙酯质量的0.6～1.5％，所述催化剂的添加量为甲基丙烯酸羟丙酯质量的0.1～0.4％。