[发明专利]一种磁控溅射镀膜方法及金属化塑料膜及其应用在审

专利信息
申请号: 202210983386.7 申请日: 2022-08-16
公开(公告)号: CN115341171A 公开(公告)日: 2022-11-15
发明(设计)人: 王天兵;李学法;张国平 申请(专利权)人: 扬州纳力新材料科技有限公司
主分类号: C23C14/02 分类号: C23C14/02;C23C14/20;C23C14/35;C23C14/56;H01M4/66;H01M10/0525
代理公司: 安徽善安知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 34200 代理人: 石家惠
地址: 225202 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 磁控溅射 镀膜 方法 金属化 塑料膜 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种磁控溅射镀膜方法,用于在塑料膜表面镀金属膜,其特征在于:首先在塑料膜表面镀过渡层,然后再镀金属层;所述塑料膜分别经过相互隔离的不同的单元室进行镀过渡层与镀金属层;所述镀过渡层时的单元室内的气压不大于镀金属层时单元室内的气压。

2.如权利要求1所述的磁控溅射镀膜方法,其特征在于:所述镀过渡层时,塑料膜经过独立的第一单元室进行。

3.如权利要求2所述的磁控溅射镀膜方法,其特征在于:所述镀金属层时,塑料膜依次经过相互隔离的第二单元室、第三单元室和第四单元室进行。

4.如权利要求3所述的磁控溅射镀膜方法,其特征在于:在镀过渡层之前,首先对第一单元室、第二单元室、第三单元室和第四单元室进行抽真空,待气压稳定后,采用氩气对各个单元室内的气压进行调节。

5.如权利要求4所述的磁控溅射镀膜方法,其特征在于:采用氩气对各个单元室内的气压进行调节后,所述第一单元室内的气压与第二单元室内的气压相等,且均小于第三单元室和第四单元室内的气压。

6.如权利要求5所述的磁控溅射镀膜方法,其特征在于:所述第三单元室内的气压与第四单元室内的气压相等。

7.如权利要求3所述的磁控溅射镀膜方法,其特征在于:所述第一单元室内设有镍靶材,所述第二单元室、第三单元室和第四单元室内均设有铜靶材。

8.如权利要求3所述的磁控溅射镀膜方法,其特征在于:所述第一单元室内设有镍靶材,所述第二单元室、第三单元室和第四单元室内均设有铝靶材。

9.一种采用如权利要求1-8中任一项所述的磁控溅射镀膜方法得到的金属化塑料膜。

10.如权利要求9所述的金属化塑料膜,作为复合集流体,用于锂电池中。

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