[发明专利]二极管生产工艺中使用的酸洗装置

权利要求书

1.二极管生产工艺中使用的酸洗装置，包括用于盛放酸液的酸洗池（1）和设置在酸洗池（1）内部用于放置二极管的托架（2），其特征在于：所述托架（2）底部设置有酸液搅拌机构（3），所述托架（2）顶部设置有二极管保护机构（4），所述酸洗池（1）顶部两侧设置有托架（2）升降机构；

所述酸液搅拌机构（3）包括设置在托架（2）底部的搅拌波轮（5），所述搅拌波轮（5）底部安装有根据波轮升降驱动波轮旋转的波轮驱动机构（6）；

所述二极管保护机构（4）包括两组对称设置在托架（2）顶部的二极管存放槽（7）和用于将二极管限位在二极管存放槽（7）内部的限位机构（8）；

所述托架（2）升降机构包括两个对称设置在酸洗池（1）顶部的传动臂（9），所述传动臂（9）一端与托架（2）相连接，用于驱动托架（2）在酸洗池（1）上下移动，所述酸洗池（1）底部设置有用于驱动传动臂（9）活动的动力机构（10）；

所述搅拌波轮（5）包括呈圆盘状的盘体（51），所述盘体（51）底部呈环状分布有多个搅拌叶（52），所述盘体（51）表面呈环状开设有多个通孔（53），所述通孔（53）与搅拌叶（52）相对应，所述盘体（51）顶部呈环状嵌设有多个滚珠一（54）；

所述波轮驱动机构（6）包括连接在盘体（51）底部的支撑杆（61），所述酸洗池（1）内壁底部安装有套筒（62），所述套筒（62）顶部安装有固定环（63），所述支撑杆（61）底端贯穿固定环（63）并延伸入套筒（62）内部，所述支撑杆（61）外部呈螺旋状环绕有两个对称分布的导轨（64），所述固定环（63）内壁与支撑杆（61）的连接处开设有两个导向槽（65），所述导轨（64）与导向槽（65）滑动连接，所述支撑杆（61）底部安装有波轮复位组件（66）；

所述波轮复位组件（66）包括设置通过螺钉安装在支撑杆（61）底部呈圆形的连接片（661），所述连接片（661）底部呈环状嵌设有多个滚珠二（662），所述连接片（661）底部设置有活动盘（663），所述活动盘（663）设置在套筒（62）内部并与套筒（62）滑动连接，所述活动盘（663）底部安装有复位弹簧一（664），所述套筒（62）外部开设有多个通槽（665）；

每组二极管存放槽（7）由多个等距分布的且呈半圆柱状的限位槽（701）组成；

所述限位机构（8）包括二极管推条（81）和二极管压板（82），所述二极管推条（81）的二极管压板（82）分别设置在限位槽（701）的两个端部方向，所述二极管推条（81）活动安装在托架（2）顶部靠近托架（2）中心的一侧，所述二极管推条（81）底部安装有两个推条驱动架（83），所述二极管压板（82）设置在托架（2）顶部靠近托架（2）边缘的一侧，所述二极管压板（82）一侧安装有两个压板驱动架（84）；

所述推条驱动架（83）底端延伸至托架（2）底部，所述推条驱动架（83）与托架（2）滑动连接，所述压板驱动架（84）一端延伸至托架（2）底部，所述压板驱动架（84）与托架（2）铰接，所述压板驱动架（84）与推条驱动架（83）之间设置有限位驱动组件（85）；

所述限位驱动组件（85）包括设置在托架（2）底部的固定板（851），以及设置在推条驱动架（83）和压板驱动架（84）之间的连接杆（852）；

所述固定板（851）顶端安装有多个导向杆（853），所述导向杆（853）贯穿托架（2）并与托架（2）滑动连接，所述导向杆（853）顶端通过螺钉安装有用于防止导向杆（853）脱离的固定片（854），所述导向杆（853）外部套设有用于固定板（851）复位的复位弹簧二（855），所述复位弹簧二（855）设置在托架（2）底部并与托架（2）相连接；

所述固定板（851）与推条驱动架（83）之间倾斜设置有传动杆（856），所述传动杆（856）两端分别与固定板（851）和推条驱动架（83）铰接，所述复位弹簧二（855）的弹性系数远小于复位弹簧一（664）的弹性系数。

2.根据权利要求1所述的二极管生产工艺中使用的酸洗装置，其特征在于：所述连接杆（852）一端与推条驱动架（83）固定连接，所述压板驱动架（84）底部设置为Y形，所述连接杆（852）一端延伸入压板驱动架（84）内部，所述连接杆（852）两侧对称设置有两个圆柱状的滑块（857），所述压板驱动架（84）上开设有与滑块（857）相对应的滑槽（858）。