[发明专利]成像光学系统、相机模块及电子装置

说明书

一种成像光学系统、相机模块及电子装置，成像光学系统沿一中心光路依序包含一红外光吸收元件、一红外光减少膜层及一平板元件。红外光吸收元件为红外光吸收塑胶元件，且红外光吸收元件用以折射光线。红外光减少膜层较红外光吸收元件的一入光面靠近成像光学系统的一成像面。平板元件设置于红外光减少膜层与成像面之间且为一体成型，平板元件包含一透光部与一支架部，其中透光部与成像面对应设置，支架部环绕透光部，使透光部保持于中心光路上的一特定位置。借此，可改善光学品质。

技术领域

本揭示内容是关于一种成像光学系统与相机模块，且特别是一种应用在可携式电子装置上的成像光学系统与相机模块。

背景技术

近年来，可携式电子装置发展快速，例如智能电子装置、平板计算机等，已充斥在现代人的生活中，而装载在可携式电子装置上的相机模块与其成像光学系统也随之蓬勃发展。但随着科技愈来愈进步，使用者对于成像光学系统与相机模块的品质要求也愈来愈高。

具体而言，现有相机模块中，滤光片设置于成像镜头与感光元件之间，其中滤光片可用于过滤红外光、紫外光等，但不以此为限。滤光片通常亦可用于保护感光元件，避免微尘附着于感光元件的感光面。然而，滤光片在强光照射的情况下容易形成鬼影，且由于组装需求及对滤除光线的需求，故滤光片的尺寸受到限制，进而影响成像光学系统的后焦，导致设计高品质、小体积的成像光学系统变得困难。因此，发展一种可提升设计自由度的成像光学系统遂成为产业上重要且急欲解决的问题。

发明内容

本揭示内容提供一种成像光学系统、相机模块及电子装置，通过低反射膜层、疏密结构层或抗反射多膜层与红外光吸收元件、红外光减少膜层的配置达到提升成像光学系统的设计自由度以获得改善光学品质或减小体积等效果。

依据本揭示内容一实施方式提供一种成像光学系统，沿一中心光路依序包含一红外光吸收元件、一红外光减少膜层及一平板元件。红外光吸收元件为红外光吸收塑胶元件，且红外光吸收元件用以折射光线。红外光减少膜层较红外光吸收元件的一入光面靠近成像光学系统的一成像面。平板元件设置于红外光减少膜层与成像面之间且为一体成型，平板元件包含一透光部与一支架部，其中透光部与成像面对应设置，支架部环绕透光部，使透光部保持于中心光路上的一特定位置。平板元件还包含一疏密结构层，疏密结构层设置于透光部的一入光面与一出光面中至少一者，疏密结构层往一空气方向渐疏，且在透光部的入光面与出光面中至少一者形成多个孔洞。疏密结构层的主要材质为陶瓷，且疏密结构层对波长区间420nm至680nm的一光线的平均反射率小于0.98％。疏密结构层的晶体平均高度为GH，成像光学系统的焦距为f，红外光吸收元件与红外光减少膜层沿中心光路的距离为L1，红外光减少膜层与疏密结构层沿中心光路的距离为L2，其满足以下条件：60nm≤GH≤400nm；0.0≤L1/f≤0.21；以及0.21≤L2/f。

依据前段所述实施方式的成像光学系统，其中疏密结构层对波长区间400nm至900nm的一光线的平均反射率可小于0.98％。

依据前段所述实施方式的成像光学系统，其中疏密结构层对波长区间400nm至900nm的一光线的平均反射率可小于0.5％。

依据前段所述实施方式的成像光学系统，其中疏密结构层的晶体平均高度为GH，其可满足下列条件：120nm≤GH≤300nm。

依据前段所述实施方式的成像光学系统，可还包含一中介层，其中中介层连接疏密结构层与平板元件，且中介层通过孔洞中至少一者与空气接触。

依据前段所述实施方式的成像光学系统，其中红外光减少膜层可设置于红外光吸收元件的一出光面。

依据前段所述实施方式的成像光学系统，可还包含一膜层设置元件，其中膜层设置元件设置于红外光吸收元件的一像侧。红外光减少膜层设置于膜层设置元件的一入光面与一出光面中其中一者。

依据前段所述实施方式的成像光学系统，其中膜层设置元件可紧邻红外光吸收元件。