[发明专利]一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺

权利要求书

1.一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺，其特征在于：所述工艺包括以下步骤，

(1)将外观完好的鼓基浸入清洗液Ⅰ中进行清洗；

(2)将毛刷紧贴清洗后的鼓基外壁，使鼓基与毛刷同时旋转且旋转方向相反，并向鼓基外表面喷洒清洗液Ⅱ，利用毛刷对鼓基外壁进行刷洗；

(3)利用高压高水柱的形式将清洗液Ⅲ分别喷淋刷洗后的鼓基内壁、外壁；

(4)将喷淋后的鼓基浸入清洗液Ⅳ中进行超声波清洗；

(5)将超声清洗后的鼓基先后浸入两个盛有纯水的槽中分别进行抛动漂洗；

(6)将抛动漂洗后的鼓基浸入电导率小于0.1μS/cm的纯水中，然后以不大于2m/min的上升速度将鼓基慢提拉至水面；

(7)将慢提拉后的鼓基烘干，即完成鼓基表面的清洗工艺；

其中，清洗液Ⅰ～Ⅳ均是由清洗剂与纯水配制形成的且清洗剂的浓度按清洗液编号顺序增大依次降低，清洗液Ⅰ～Ⅲ中选用电导率小于5μS/cm的纯水，清洗液Ⅳ以及步骤(5)中选用电导率小于2μS/cm的纯水，清洗剂选用PH＝9～13的碱性清洗剂，步骤(1)～(7)均是在100级净化的环境下进行的。

2.根据权利要求1所述的一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺，其特征在于：清洗液Ⅰ是由清洗剂与电导率小于5μS/cm的纯水按照5:95～10:90的质量比配制而成的；清洗液Ⅱ是由清洗剂与电导率小于5μS/cm的纯水按照4:96～6:94的质量比配制而成的；清洗液Ⅲ是由清洗剂与电导率小于5μS/cm的纯水按照2.5:97.5～5:95的质量比配制而成的；清洗液Ⅳ是由清洗剂与电导率小于2μS/cm的纯水按照1.5:98.5～4:96质量比配制而成的。

3.根据权利要求1或2所述的一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺，其特征在于：清洗液Ⅰ是由清洗剂与电导率小于5μS/cm的纯水按照5:95～10:90的质量比配制而成的，清洗温度为40～80℃，清洗时间为90～240s，抛动速度为1～5m/min。

4.根据权利要求1所述的一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺，其特征在于：步骤(2)中，毛刷的刷毛材质为尼龙，刷毛的直径为0.05～0.35mm，刷毛长度为25～45mm，在每平方厘米内刷毛数量要求大于500根，刷毛呈螺旋状分布。

5.根据权利要求1、2或4所述的一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺，其特征在于：毛刷旋转速度为60～90rpm，鼓基旋转速度为30～60rpm，清洗液Ⅱ喷洒流量为15～45L/min。

6.根据权利要求1或2所述的一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺，其特征在于：先喷淋鼓基的内壁，再喷淋鼓基的外壁；

其中，喷淋鼓基内壁时鼓基不旋转，鼓基内壁的喷淋压力为0.1～0.15MPa、喷淋流量为80～90L/min以及喷淋时间为15～20s；喷淋鼓基外壁时鼓基旋转，鼓基外壁的喷淋压力为0.1～0.15MPa、喷淋流量为80～90L/min以及喷淋时间为30～40s，鼓基的旋转速度为30～60rpm。

7.根据权利要求1或2所述的一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺，其特征在于：清洗液Ⅳ是由清洗剂与电导率小于2μS/cm的纯水按照1.5:98.5～4:96配制而成的，超声功率为0.5～5kW，超声频率为20～90kHz，超声时间为140～180s。

8.根据权利要求1或2所述的一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺，其特征在于：清洗液Ⅳ是由清洗剂与电导率小于2μS/cm的纯水按照1.5:98.5～4:96配制而成的，先在超声功率为0.5～1.5kW以及超声频率为20～45kHz下超声20～40s，再在超声功率为1.0～2.5kW以及超声频率为50～90Hz kHz下超声110～150s。

9.根据权利要求1或2所述的一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺，其特征在于：步骤(5)中，每次抛动漂洗过程中，抛动速度为1m/min～10m/min，上下抛动距离为5cm～20cm，抛动周期数为6～20，其中完成一次上升以及一次下降为一个抛动周期。

10.根据权利要求1或2所述的一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺，其特征在于：步骤(6)中，纯水的温度为40～70℃，鼓基在纯水中上升之前与水面之间的最小垂直距离不小于10cm，以0.2～2m/min的上升速度将鼓基慢提拉至水面。