[发明专利]一种无交叉污染的用于液体释放的双阀柱结构

权利要求书

1.一种无交叉污染的用于液体释放的双阀柱结构，其特征在于，所述双阀柱结构设在结构层（1）上的液体存储池（11）和液体缓冲池（13）之间，所述双阀柱结构包括设在液体存储池（11）和液体缓冲池（13）之间的隔离墙（16）、贯穿隔离墙（16）的至少两个阀柱（34）以及开设在隔离墙（16）顶面上的导流盲槽（15），所述导流盲槽（15）与所述阀柱（34）错开，所述导流盲槽（15）的一端与液体存储池（11）保持连通，另一端延伸至隔离墙（16）顶面的中部，并被隔离墙隔断，形成断开的盲管道；

所述液体存储池（11）、隔离墙（16）、液体缓冲池（13）被弹性盖片层（2）覆盖，所述阀柱（34）在与隔离墙（16）相对运动时，向上伸出隔离墙（16）顶起弹性盖片层（2），或向下缩回隔离墙（16）中。

2.根据权利要求1所述的一种无交叉污染的用于液体释放的双阀柱结构，其特征在于，所述液体存储池（11）和液体缓冲池（13）都开设在结构层（1）的顶面上，并且从内到外依次布置，在液体存储池（11）和液体缓冲池（13）之间形成隔离墙（16）；

所述结构层（1）上开设有与阀柱（34）逐个对应的阀孔（14），所述阀孔（14）贯穿隔离墙（16），并且所述阀柱（34）可滑动的容置于阀孔（14）中。

3.根据权利要求1所述的一种无交叉污染的用于液体释放的双阀柱结构，其特征在于，所述阀柱（34）具有两个，所述导流盲槽（15）的中心线与两个阀柱连线的中垂线重合。

4.根据权利要求1所述的一种无交叉污染的用于液体释放的双阀柱结构，其特征在于，所述导流盲槽（15）靠近液体缓冲池（13）的一端为盲端，盲端与液体缓冲池（13）之间的距离小于盲端与最近一个阀孔之间的距离。

5.根据权利要求1所述的一种无交叉污染的用于液体释放的双阀柱结构，其特征在于，所述隔离墙（16）包括长条状的通道墙体以及柱状的阀孔墙体，所述导流盲槽（15）开设在通道墙体的顶面上，在通道墙体的两侧形成隔离墙收缩区（141）；

所述阀孔（14）开设在阀孔墙体中，所述阀孔墙体的一侧与通道墙体连为一体，并且阀孔墙体处在导流盲槽（15）的盲端旁，在阀孔墙体和通道墙体之间的连接处还开设有阀柱隔离墙缺槽（142）。

6.根据权利要求5所述的一种无交叉污染的用于液体释放的双阀柱结构，其特征在于，所述通道墙体与液体缓冲池（13）的连接处还开设有处在两个阀孔墙体之间的隔离墙末端缺口（143），并且在隔离墙末端缺口（143）中开设有隔离墙末端台阶（145）。

7.根据权利要求1所述的一种无交叉污染的用于液体释放的双阀柱结构，其特征在于，所述导流盲槽（15）的槽底所在的高度自液体存储池（11）所在的一侧起逐渐降低。

8.根据权利要求1所述的一种无交叉污染的用于液体释放的双阀柱结构，其特征在于，两个阀柱（34）的顶端具有高度差。

9.根据权利要求1-8任一所述的一种无交叉污染的用于液体释放的双阀柱结构，其特征在于，所有的阀柱（34）都固定连接在结构层（1）下方的芯片托盘（3）上；

进行液体释放时，将结构层（1）、弹性盖片层（2）整体放置于重复使用的托盘上，使得阀柱（34）穿出阀孔（14）、并顶起弹性盖片层（2）覆盖于阀孔（14）其周围的部位，从而在弹性盖片层和隔离墙之间形成流通间隙，导通导流盲槽（15）的盲端，并且所述流通间隙与阀柱（34）保持分离；

结束液体释放时，将结构层（1）、弹性盖片层（2）整体上抬，使得阀柱（34）缩回阀孔（14），弹性盖片层（2）复位，液体在导流盲槽（15）的盲端处被截断。

10.根据权利要求1-8任一所述的一种无交叉污染的用于液体释放的双阀柱结构，其特征在于，所述结构层（1）的顶面上还开设有处在液体缓冲池（13）外侧的液体定量池（12）以及液体溢流池（18），所述液体定量池（12）和液体缓冲池（13）之间通过开设在结构层（1）上的多个联通槽（122）保持连通，其中的一个或多个联通槽（122）与液体定量池（12）连通的槽口处开设有联通槽变径区（121），所述液体定量池（12）以及液体溢流池（18）之间通过开设在结构层（1）上的溢流通道（17）保持连通。