[发明专利]催化剂负载骨架、单元及其制备方法、催化燃烧反应系统

权利要求书

1.一种催化剂负载骨架，其特征在于，包括：

若干长方体板，所述若干长方体板层叠排布形成层叠体，且任意相邻两所述长方体板之间均间隔布置，任意一所述长方体板的板面均用于负载催化剂，且任意两块所述长方体板的长度均相同；

支撑骨架，所述支撑骨架的表面用于负载催化剂；所述层叠体的两端均设置有所述支撑骨架，且任意一所述长方体板均与所述支撑骨架连接；

其中，所有所述长方体板层叠排布形成圆柱状层叠体，其中，任意一所述长方体板的厚度均为1mm，任意相邻两所述长方体板之间的布置间隔均为1mm，所述长方体板的宽度满足以下三种情况之一，其中：

情况一、距离所述圆柱状层叠体的轴线的距离为D=Y/2-2n+1 mm的所述长方体板的板宽为 mm，其中，n为所述长方体板所在的层数，其由所述圆柱状层叠体的外侧向所述圆柱状层叠体的轴线依次计数，n为大于等于1且小于等于Y/4的整数，Y为所述圆柱状层叠体的外圆轮廓面的直径，且Y与Y/2均为偶数；

情况二、距离所述圆柱状层叠体的轴线的距离为D=Y/2-2n mm的所述长方体板的板宽为 mm，其中，n为所述长方体板所在的层数，其由所述圆柱状层叠体的外侧向所述圆柱状层叠体的轴线依次计数，n为大于等于1且小于等于Y/4的整数，Y为所述圆柱状层叠体的外圆轮廓面的直径，且Y为偶数，Y/2为奇数；

情况三、距离所述圆柱状层叠体的轴线的距离为D=Y/2-2n+1/2 mm的所述长方体板的板宽为 mm，其中，n为所述长方体板所在的层数，其由所述圆柱状层叠体的外侧向所述圆柱状层叠体的轴线依次计数，n为大于等于1且小于等于Y/4的整数，Y为所述圆柱状层叠体的外圆轮廓面的直径，且Y为奇数；

所述支撑骨架为椭圆状板，所述椭圆状板的长轴长度为Y mm，短轴长度为mm，其中，Y为所述圆柱状层叠体的外圆轮廓面的直径；所述椭圆状板与所述圆柱状层叠体同轴布置。

2.根据权利要求1所述的催化剂负载骨架，其特征在于，所述支撑骨架的顶部设置有用于与反应管道连接的连接部。

3.根据权利要求2所述的催化剂负载骨架，其特征在于，任意一所述长方体板的沿其长度方向的两端均设置有柱状凸起；所述椭圆状板的两侧板面上均开设有与所述柱状凸起相匹配的柱状凹槽，每个所述长方体板均通过所述柱状凸起与对应的所述柱状凹槽卡接；其中，任意一所述柱状凹槽均垂直于所述椭圆状板的长轴布置，且任意一所述柱状凹槽均贯穿所述椭圆状板的短轴方向设置。

4.根据权利要求3所述的催化剂负载骨架，其特征在于，所述柱状凸起为半圆柱状凸起，所述柱状凹槽为半圆柱状凹槽，不同所述半圆柱状凹槽的轴线距离所述椭圆状板的短轴的距离满足以下三种情况之一，其中：

情况一、所述柱状凹槽的轴线距离所述椭圆状板的短轴的距离为Y/2-2n+1 mm，其中，n为所述柱状凹槽所在的层数，其由所述椭圆状板的长轴外端向长轴中心依次计数，n为大于等于1且小于等于Y/4的整数，Y为所述圆柱状层叠体的外圆轮廓面的直径，且Y与Y/2均为偶数；

情况二、所述柱状凹槽的轴线距离所述椭圆状板的短轴的距离为Y/2-2n mm，其中，n为所述柱状凹槽所在的层数，其由所述椭圆状板的长轴外端向长轴中心依次计数，n为大于等于1且小于等于Y/4的整数，Y为所述圆柱状层叠体的外圆轮廓面的直径，且Y为偶数，Y/2为奇数；

情况三、所述柱状凹槽的轴线距离所述椭圆状板的短轴的距离为Y/2-2n+1/2 mm，其中，n为所述柱状凹槽所在的层数，其由所述椭圆状板的长轴外端向长轴中心依次计数，n为大于等于1且小于等于Y/4的整数，Y为所述圆柱状层叠体的外圆轮廓面的直径，且Y为奇数。

5.一种催化剂单元，其特征在于，包括催化剂薄膜和如权利要求1~4任意一项所述的催化剂负载骨架，任意一所述长方体板的板面和任意一所述支撑骨架的表面均覆盖有所述催化剂薄膜。

6.一种如权利要求5所述催化剂单元的制备方法，其特征在于，包括：

在任意一所述长方体板的板面和任意一所述支撑骨架的表面进行催化剂镀膜；

将所有所述长方体板和所述支撑骨架组装形成所述催化剂单元。