[发明专利]补光系统及摄像装置

说明书

本申请公开一种补光系统及摄像装置，属于摄像技术领域。补光系统包括第一发光元件、第二发光元件、第一透镜和第二透镜，第一发光元件和第二发光元件相邻设置，第一透镜和第二透镜均设有入光面，第一发光元件朝向第一透镜的入光面，第二发光元件朝向第二透镜的入光面；第一发光元件发出的光束经过第一透镜的作用形成第一光区和第二光区，第一光区位于第一发光元件的光轴远离第二透镜的一侧，第二光区位于第一发光元件的光轴靠近第二透镜的一侧，第一光区的光能量大于第二光区的光能量。如此设置，第一发光元件和第二发光元件之间的区域内的光能量减少，二者的光区重合区域的光能量较少，在一定程度上避免补光过曝，提高目标物的识别度。

技术领域

本申请属于摄像技术领域，具体涉及一种补光系统及摄像装置。

背景技术

在拍摄过程中，通过补光系统优化光线分布情况，可以达到提升拍摄质量的效果，因此，补光系统的补光效果将直接决定拍摄质量的优劣。

相关技术中，补光系统包括至少两个光源和至少两个透镜，至少两个光源依次间隔设置，透镜与光源一一对应，光源发出的光束经过对应的透镜的作用后射出。相邻的两个光源的光束经过对应的透镜后，光束分布范围分别为第一光能量范围和第二光能量范围，由于两个光源相邻设置，第一光能量范围和第二光能量范围存在重合区域，而且，在透镜的作用下，无论是第一光能量范围，还是第二光能量范围，分别关于对应光源的光轴对称分布，故重合区域较大，目标物容易位于重合区域内，由于重合区域的光能量较多，故照射到目标物的光能量较多，导致出现过曝情况，无法识别目标物的细节信息。

发明内容

本申请实施例的目的是提供一种补光系统及摄像装置，能够解决相关技术中补光系统易补光过曝，导致无法识别目标物的问题。

第一方面，本申请实施例提供一种补光系统，包括第一发光元件、第二发光元件、第一透镜和第二透镜，其中：

所述第一发光元件和所述第二发光元件相邻设置，所述第一透镜和所述第二透镜均设有入光面，所述第一发光元件朝向所述第一透镜的入光面，所述第二发光元件朝向所述第二透镜的入光面；

所述第一发光元件发出的光束经过所述第一透镜的作用形成第一光区和第二光区，所述第一光区位于所述第一发光元件的光轴远离所述第二透镜的一侧，所述第二光区位于所述第一发光元件的光轴靠近所述第二透镜的一侧，所述第一光区的光能量大于所述第二光区的光能量。

第二方面，本申请实施例还提供一种摄像装置，包括上述的补光系统。

在本申请实施例中，第一发光元件发出的光束经过第一透镜的作用形成第一光区和第二光区，第一光区的光能量大于第二光区的光能量，说明以第一发光元件的光轴为界，第一发光元件发出的光束较多地位于第一发光元件的光轴远离第二透镜的一侧，而较少的光束位于第一发光元件的光轴靠近第二透镜的一侧，也就是较少的光束位于第一发光元件和第二发光元件之间的区域。

因此，位于第一发光元件和第二发光元件之间的区域内的光能量较少，位于第一发光元件和第二发光元件相互远离的区域内的光能量较多。

如此设置，由于第一发光元件和第二发光元件之间的区域内的光能量减少，即使第二光区和第二发光元件的光束所形成的光区部分重合，重合区域的光能量也相对减少，从而在一定程度上避免补光过曝的情况，提高目标物的识别度。

附图说明

图1是本申请实施例公开的补光系统的结构示意图；

图2是本申请实施例公开的第一发光元件和第二发光元件的光区分布示意图；

图3是本申请实施例公开的第一透镜的结构示意图；

图4是本申请实施例公开的第一发光元件所发出光线的光强I₁随偏光角度φ变化的函数图像；