[发明专利]一种基于MDM型纳米腔结构在审
| 申请号: | 202210810137.8 | 申请日: | 2022-07-11 |
| 公开(公告)号: | CN115372325A | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
| 发明(设计)人: | 聂国政;谭迪文;李德琼;占世平;李宗霖;钟防 | 申请(专利权)人: | 湖南科技大学 |
| 主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64;G01N21/31;C09K11/85;C09K11/02;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 深圳叁众知识产权代理事务所(普通合伙) 44434 | 代理人: | 董杨 |
| 地址: | 411201 湖南省湘潭市雨湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基于 mdm 纳米 结构 | ||
1.一种基于MDM型纳米腔结构,其特征在于,所述MDM型纳米腔结构从上至下依次包括银纳米环层、UCNPs层、银底层;
其中,所述银纳米环层由三个半径不等的银纳米环构成,分别为银纳米内环、银纳米中环和银纳米外环,所述银纳米内环、银纳米中环和银纳米外环互为共享圆心的同心环;
所述银纳米内环、银纳米中环和银纳米外环上均对称设置有两个活动性缺口,分别为A-F,任意一个活动性缺口均可设置为开启或关闭状态,且活动性缺口A-F均在同一直线S上,所述直线S为某一条通过以所述银纳米环的圆心的直线;
所述银纳米内环、银纳米中环和银纳米外环分别对入射波长740-890nm、920-1090nm和1420-1780nm具有响应。
2.根据权利要求1所述基于MDM型纳米腔结构,其特征在于,所述活动性缺口A-F的开口角度为1-15°。
3.根据权利要求1所述基于MDM型纳米腔结构,其特征在于,所述银纳米内环的外半径取值范围为53-65nm;所述银纳米中环的外半径取值范围为108-120nm;所述银纳米外环的外半径取值范围为186-198nm。
4.根据权利要求1所述基于MDM型纳米腔结构,其特征在于,所述银纳米环层中,所述银纳米内环与银纳米中环之间的间隔为23-47nm,所述银纳米中环与银纳米外环之间的间隔为46-70nm。
5.根据权利要求1所述基于MDM型纳米腔结构,其特征在于,所述银纳米内环、银纳米中环和银纳米外环等高度等宽度,所述高度为40-70nm,所述宽度为10-30nm。
6.根据权利要求1所述基于MDM型纳米腔结构,其特征在于,所述UCNPs层的厚度为15-35nm。
7.根据权利要求1所述基于MDM型纳米腔结构,其特征在于,所述UCNPs层的介电常数为1.40-1.47。
8.根据权利要求1所述基于MDM型纳米腔结构,其特征在于,所述基于MDM型纳米腔结构外接激发光源,所述激发光源对所述基于MDM型纳米腔结构以照射光进行持续照射。
9.根据权利要求8所述基于MDM型纳米腔结构,其特征在于,所述激发光源的照射光的波长范围在700-2000nm。
10.根据权利要求6所述基于MDM型纳米腔结构,其特征在于,所述UCNPs层所用敏化剂,选自Nd3+、Yb3+和Er3+的一种或多种。
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