[发明专利]电化学装置和电子装置

权利要求书

1.一种电化学装置，其包括：

负极极片，所述负极极片包括负极集流体、第一层和第二层，所述第一层位于所述负极集流体和所述第二层之间；

其中，所述第一层包括第一负极活性材料，所述第二层包括第二负极活性材料；所述第一负极活性材料含有第一掺杂元素，所述第二负极活性材料含有第二掺杂元素；

所述第一层中的第一掺杂元素的质量百分比大于所述第二层中的第二掺杂元素的质量百分比，所述第一掺杂元素和所述第二掺杂元素相同，所述第一掺杂元素和所述第二掺杂元素包括S、N、P、B、Sn或Sb中的至少一种；其中，所述第一层中的所述第一掺杂元素的质量百分比为0.01%至1%。

2.根据权利要求1所述的电化学装置，其中，所述第二层中的所述第二掺杂元素的质量百分比为0.001%至0.01%。

3.根据权利要求1所述的电化学装置，其中，所述第一层中的第一掺杂元素的质量百分比为0.1%至0.3%。

4.根据权利要求1所述的电化学装置，其中，所述第一负极活性材料和所述第二负极活性材料各自独立地包括石墨或硬碳中的至少一种。

5.根据权利要求4所述的电化学装置，其中，所述第一负极活性材料和所述第二负极活性材料还各自独立地包括硅基材料。

6.根据权利要求5所述的电化学装置，其中，所述第一层中的所述硅基材料的质量百分比为1%至30%。

7.根据权利要求5所述的电化学装置，其中，所述第二层中的所述硅基材料的质量百分比为0.1%至4%。

8.根据权利要求1所述的电化学装置，其中，所述第一层的质量与所述第一层和所述第二层的总质量的比率为40%至80%，所述第二层的质量与所述第一层和所述第二层的总质量的比率为20%至60%。

9.一种电子装置，包括根据权利要求1至8中任一项所述的电化学装置。