[发明专利]一种载玻片样品染色处理微环境装置及使用方法

权利要求书

1.一种载玻片样品染色处理微环境装置，其特征在于，该微环境包括：

玻片架（1）：用于玻片（5）的放置，包括支架本体（101）及设置在支架本体（101）两侧的滑槽；

盖板（2）：其前端限制在支架本体（101）的滑槽内，沿滑槽前后移动实现对玻片（5）的样品区域部分覆盖，包括盖板本体（201）、盖板把手（202）及导向块（203），所述盖板把手（202）及导向块（203）分设在盖板本体（201）的两端，且导向块（203）与滑槽滑动连接；

扣紧模块（3）：与传动杆（4）配合用于盖板把手（202）的扣紧；

传动杆（4）：由传动机构驱动，传动杆（4）的上端设置有沟槽，该沟槽与扣紧模块（3）配合，传动机构驱动传动杆（4）动作，进而带动盖板（2）在玻片（5）上滑动。

2.如权利要求1所述的一种载玻片样品染色处理微环境装置，其特征在于所述支架本体（101）靠近扣紧模块（3）的一端设置有限位块（102），用于对盖板（2）位移距离进行限位。

3.如权利要求1所述的一种载玻片样品染色处理微环境装置，其特征在于所述支架本体（101）靠近扣紧模块（3）的一端还设置有定位孔（103），所述盖板本体（201）上对应定位孔（103）的位置处设置有定位块（204），支架本体（101）的底板上靠近定位孔（103）的一端还设置有漏液孔（104）。

4.如权利要求1所述的一种载玻片样品染色处理微环境装置，其特征在于所述盖板本体（201）的下表面设置有垂直于盖板本体（201）的挡板（205），所述挡板（205）围成半封闭矩形空间（206），该矩形空间（206）与玻片（5）外尺寸相吻合，便于为玻片样品提供染色流程下不同状态的微环境。

5.如权利要求1所述的一种载玻片样品染色处理微环境装置，其特征在于所述盖板本体（201）远离扣紧模块（3）的一端的下表面分别设置有滑动圆弧区（207）和顶板圆弧区（208），所述滑动圆弧区（207）和顶板圆弧区（208）之间存在高度差。

6.权利要求1-6任一所述的一种载玻片样品染色处理微环境装置的使用方法，其特征在于包括以下步骤：

1）盖板（2）通过其上设置的导向块（203）安装于支架本体（101）内，传动杆（4）通过其上设置的沟槽及扣紧模块（3）与盖板把手（202）装配，完成载玻片样品染色微环境装置的组装；

2）工作时，传动机构动作，带动传动杆（4）向上方或斜上方运动进而带动盖板（2）在玻片（5）上滑动；

3）工作状态一，盖板（2）与玻片（5）在交接区域形成夹角，由于试剂溶液的张力作用致使试剂在靠近顶板圆弧区（208）位置聚集，并随着盖板（2）在玻片（5）上滑动，将试剂均匀涂抹在样品上或者对样品进行清洗；

4）工作状态二，传动杆（4）到达最高位置，盖板（2）与玻片（5）夹角达到最大值，顶板圆弧区（208）拖带试剂至漏液孔（104）位置，试剂通过漏液孔（104）导流排出，实现试剂排废。

7.如权利要求6所述的一种载玻片样品染色处理微环境装置的使用方法，其特征在于当盖板（2）水平盖在玻片（5）上时，挡板（205）的下边缘与玻片（5）完全接触，挡板（205）与玻片（5）之间形成半封闭的矩形空间（206），为样品提供染色流程下不同状态的微环境。

8.如权利要求6所述的一种载玻片样品染色处理微环境装置的使用方法，其特征在于盖板把手（202）装配在传动杆（4）的沟槽及扣紧模块（3）内，传动杆（4）向上或者斜向上方向运动时，盖板把手（202）在传动杆（4）的沟槽及扣紧模块（3）内存在相对转动，并带动盖板主体运动。

9.如权利要求6所述的一种载玻片样品染色处理微环境装置的使用方法，其特征在于当盖板（2）在玻片（5）上滑动过程中，盖板（2）与玻片（5）的夹角不断变化，并且接触点位置在滑动圆弧区（207）区域内同步变动。