[发明专利]一种基于SiOx与超声波联合强化的二维纳米MXene材料快速制备方法

权利要求书

1.一种基于SiOx与超声波联合强化的二维纳米MXene材料快速制备方法，其特征在于：所述方法为：用SiOx与超声波联合强化HF对MAX相进行选择性刻蚀，通过物理与化学联合强化作用，将活泼金属层快速刻蚀掉即得到处理后的二维纳米MXene材料。

2.如权利要求1所述的SiOx与超声波联合强化HF刻蚀制备MXene材料的方法，其特征在于：MXene(通式为Mn+1XnTx，n通常取值为1-3)的构成：M为早期过渡金属，比如Sc，Ti，Zr，V，Nb，Cr，Mo等，X为C或N元素，Tx为表面基团，通常为-OH，-O，-F和-Cl。

3.如权利要求1所述的SiOx与超声波联合强化HF刻蚀制备MXene材料的方法，其特征在于：对MAX相球磨一段时间，粉碎成更小的颗粒；或将MAX与SiOx混合后共同研磨至合适粒径。

4.如权利要求3所述的SiOx与超声波联合强化HF刻蚀制备MXene材料的方法，其特征在于：氢氟酸溶液中HF的质量百分数为20-50％；优选为30％。

5.如权利要求1所述的SiOx与超声波联合强化HF刻蚀制备MXene材料的方法，其特征在于：HF中SiO_x的质量浓度为0.05-0.15g/mL；优选为0.1g/mL。

6.如权利要求1所述的SiOx与超声波联合强化HF刻蚀制备MXene材料的方法，其特征在于：超声波的功率为0-300W；优选为180-300W；进一步优选为300W。

7.如权利要求1所述的SiOx与超声波联合强化HF刻蚀制备MXene材料的方法，其特征在于：利用超声强化HF进行刻蚀的时间为0.5-5h；优选为0.5-3h；进一步优选为0.5-2h。