[发明专利]一种基于SiOx与超声波联合强化的二维纳米MXene材料快速制备方法在审

专利信息
申请号: 202210652283.2 申请日: 2022-06-10
公开(公告)号: CN115385336A 公开(公告)日: 2022-11-25
发明(设计)人: 张宗波;孟楠;张煜;张冬至;巩亮 申请(专利权)人: 中国石油大学(华东)
主分类号: C01B32/90 分类号: C01B32/90;C01B21/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266580 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 siox 超声波 联合 强化 二维 纳米 mxene 材料 快速 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种基于SiOx与超声波联合强化的二维纳米MXene材料快速制备方法,其特征在于:所述方法为:用SiOx与超声波联合强化HF对MAX相进行选择性刻蚀,通过物理与化学联合强化作用,将活泼金属层快速刻蚀掉即得到处理后的二维纳米MXene材料。

2.如权利要求1所述的SiOx与超声波联合强化HF刻蚀制备MXene材料的方法,其特征在于:MXene(通式为Mn+1XnTx,n通常取值为1-3)的构成:M为早期过渡金属,比如Sc,Ti,Zr,V,Nb,Cr,Mo等,X为C或N元素,Tx为表面基团,通常为-OH,-O,-F和-Cl。

3.如权利要求1所述的SiOx与超声波联合强化HF刻蚀制备MXene材料的方法,其特征在于:对MAX相球磨一段时间,粉碎成更小的颗粒;或将MAX与SiOx混合后共同研磨至合适粒径。

4.如权利要求3所述的SiOx与超声波联合强化HF刻蚀制备MXene材料的方法,其特征在于:氢氟酸溶液中HF的质量百分数为20-50%;优选为30%。

5.如权利要求1所述的SiOx与超声波联合强化HF刻蚀制备MXene材料的方法,其特征在于:HF中SiOx的质量浓度为0.05-0.15g/mL;优选为0.1g/mL。

6.如权利要求1所述的SiOx与超声波联合强化HF刻蚀制备MXene材料的方法,其特征在于:超声波的功率为0-300W;优选为180-300W;进一步优选为300W。

7.如权利要求1所述的SiOx与超声波联合强化HF刻蚀制备MXene材料的方法,其特征在于:利用超声强化HF进行刻蚀的时间为0.5-5h;优选为0.5-3h;进一步优选为0.5-2h。

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