[发明专利]模型阴影生成方法、装置、可读存储介质及电子设备

说明书

本公开的实施例提供了一种模型阴影生成方法、模型阴影生成装置、介质及设备；所述方法包括：在模型旁生成一投影面板，将所述投影面板的顶点位置转换到光源空间；采集所述模型在所述光源空间中的深度图，采集所述投影面板的多个顶点位置在光源空间下的第一深度值，其中，所述深度图包含所述模型的多个顶点位置在所述光源空间中的第二深度值；对比所述深度图的所述第二深度值和所述投影面板的所述第一深度值的大小，根据对比结果将所述投影面板区分为第一部分和第二部分；将包括所述第一部分和所述第二部分的所述投影面板作为阴影。可见，实施本公开实施例的技术方案，可以降低阴影生成受限制程度，降低阴影生成的性能压力并提高计算效率。

技术领域

本公开涉及虚拟显示技术领域，具体而言，涉及一种模型阴影生成方法、模型阴影生成装置、计算机可读存储介质及电子设备。

背景技术

随着计算机技术的发展，虚拟场景在学习、生活和工作各方面都逐渐发挥其作用。人们不断追求虚拟场景的真实性，提高真实性有多种方式，例如可以为虚拟场景中的模型添加阴影使得模型立体感更强，场景更加真实。

目前的方案，若要对一个模型进行阴影生成处理，需要场景存在其他模型去承载阴影，才能将投影呈现，导致阴影生成受限；并且，场景中的模型较多时，还会造成较大的性能压力，影响渲染效率和渲染效果。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开实施例的目的在于提供一种模型阴影生成方法、模型阴影生成装置、计算机可读存储介质及电子设备。通过在模型旁生成一投影面板，将投影面板的顶点位置转换到光源空间；采集模型在光源空间中的深度图，采集投影面板在光源空间下的深度值；对比深度图的第二深度值和投影面板第一深度值的大小，根据对比结果得到阴影。可以降低阴影生成受限制程度，降低阴影生成的性能压力并提高计算效率。

本公开实施例的第一方面提供了一种模型阴影生成方法，所述方法包括：

在模型旁生成一投影面板，将所述投影面板的顶点位置转换到光源空间；

采集所述模型在所述光源空间中的深度图，采集所述投影面板的多个顶点位置在光源空间下的第一深度值，其中，所述深度图包含所述模型的多个顶点位置在所述光源空间中的第二深度值；

对比所述深度图的所述第二深度值和所述投影面板的所述第一深度值的大小，根据对比结果将所述投影面板区分为第一部分和第二部分；

将包括所述第一部分和所述第二部分的所述投影面板作为阴影。

在本公开的一种示例性实施例中，所述将所述投影面板的顶点位置转换到光源空间的步骤，包括：

将投影面板的顶点位置从模型空间转到世界空间，然后从所述世界空间转到光源空间。

在本公开的一种示例性实施例中，所述根据对比结果将所述投影面板区分为第一部分和第二部分的步骤，包括：

当所述深度图的所述第二深度值小于所述投影面板的所述第一深度值，则以第一状态进行显示；

当所述深度图的所述第二深度值大于所述投影面板的所述第一深度值，则以第二状态进行显示；

将以所述投影面板中以第一状态进行显示的部分作为第一部分，将所述投影面板中以第二状态进行显示的部分作为第二部分。

在本公开的一种示例性实施例中，在所述将包括所述第一部分和所述第二部分的所述投影面板作为阴影的步骤之后，所述方法还包括：

剔除所述第二部分并保留第一部分，将所述第一部分作为最终阴影结果。

在本公开的一种示例性实施例中，所述在模型旁生成一投影面板的步骤，包括：