[发明专利]烹饪设备及烹饪设备清洁控制方法、装置、存储介质

权利要求书

1.一种烹饪设备，其特征在于，包括烹饪腔、气体收集室、第一气体传感组件、第二气体传感组件、控制组件和清洁组件；

所述烹饪腔用于放置待烹饪食物；

所述气体收集室连接所述烹饪腔，用于在完成当前烹饪处理工作的情况下，收集所述烹饪腔中的气体；

所述第一气体传感组件设置于所述气体收集室，用于检测所述气体收集室内的第一气体信号；

所述第二气体传感组件设置于所述烹饪腔，用于检测所述烹饪腔内的第二气体信号；

所述控制组件用于获取所述第一气体信号，并在所述第一气体信号满足清洁条件的情况下，控制所述第二气体传感组件开启，以及获取所述第二气体信号，并根据所述第二气体信号控制所述清洁组件对烹饪设备进行清洁处理。

2.根据权利要求1所述的烹饪设备，其特征在于，所述第二气体传感组件包括至少两个气体传感器，各所述气体传感器分别设置于所述烹饪腔内的不同位置；

所述控制组件还用于在所述第一气体信号满足清洁条件的情况下，根据所述第一气体信号确定所述第二气体传感组件中待开启的气体传感器；所述待开启的气体传感器为所述至少两个气体传感器中的至少一部分；所述第二气体信号根据各所述气体传感器检测得到的子信号确定。

3.一种烹饪设备清洁控制方法，其特征在于，包括：

获取烹饪设备的气体收集室内的第一气体信号；所述气体收集室连接所述烹饪设备的烹饪腔，用于在完成当前烹饪处理工作的情况下，收集所述烹饪腔中的气体；所述第一气体信号由设置于所述气体收集室的第一气体传感组件检测得到；

在所述第一气体信号满足清洁条件的情况下，控制第二气体传感组件开启；所述第二气体传感组件设置于所述烹饪腔；

获取所述第二气体传感组件检测得到的所述烹饪腔内的第二气体信号；

根据所述第二气体信号控制清洁组件对所述烹饪设备进行清洁处理。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述第二气体传感组件包括至少两个气体传感器；所述在所述第一气体信号满足清洁条件的情况下，控制第二气体传感组件开启，包括：

在所述第一气体信号满足清洁条件的情况下，根据所述第一气体信号确定所述第二气体传感组件中待开启的气体传感器；所述待开启的气体传感器为所述至少两个气体传感器中的至少一部分；

控制所述待开启的气体传感器开启。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据所述第一气体信号确定所述第二气体传感组件中待开启的气体传感器，包括：

根据所述第一气体信号确定所述第二气体传感组件中待开启的气体传感器的数量；

根据所述数量、以及所述第二气体传感组件中的各所述气体传感器在所述烹饪腔内的位置，确定所述第二气体传感组件中待开启的气体传感器。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述第二气体传感组件中开启的气体传感器的数量为至少两个；所述获取所述第二气体传感组件检测得到的所述烹饪腔内的第二气体信号，包括：

获取各所述开启的气体传感器检测得到的所述烹饪腔内的子信号；

根据各所述子信号确定所述烹饪腔内的第二气体信号。

7.根据权利要求3至6中任意一项所述的方法，其特征在于，所述根据所述第二气体信号控制清洁组件对烹饪设备进行清洁处理，包括：

根据所述第二气体信号确定所述烹饪腔的脏污特征信息；

根据所述脏污特征信息确定清洁组件的清洁程式，并基于所述清洁程式控制所述清洁组件对烹饪设备进行清洁处理。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述脏污特征信息包括脏污程度和脏污位置分布；所述根据所述第二气体信号确定所述烹饪腔的脏污特征信息，包括：

根据所述第二气体信号确定所述烹饪腔的脏污程度；

根据所述第二气体信号关联的各子信号，确定所述烹饪腔的脏污位置分布；所述子信号由所述气体传感组件中的气体传感器检测得到；各所述气体传感器分别设置于所述烹饪腔内的不同位置。