[发明专利]一种挠性覆金属板、电子装置及挠性覆金属板的制作方法有效
申请号: | 202210595813.4 | 申请日: | 2022-05-27 |
公开(公告)号: | CN114953640B | 公开(公告)日: | 2023-10-20 |
发明(设计)人: | 苏陟;周街胜;周涵钰 | 申请(专利权)人: | 广州方邦电子股份有限公司 |
主分类号: | B32B15/20 | 分类号: | B32B15/20 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 陈志明 |
地址: | 510530 广东省广州市广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 挠性覆 金属板 电子 装置 制作方法 | ||
1.一种挠性覆金属板,其特征在于,包括绝缘基膜层和设置在所述绝缘基膜层至少一表面的金属箔层;
所述金属箔层面向所述绝缘基膜层的一表面为粗化处理面,所述粗化处理面的若干粗糙度参数满足表面轮廓纵向均匀度关系式,和/或,表面轮廓横向均匀度关系式。
2.如权利要求1所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述表面轮廓纵向均匀度关系式为:2.00≤Ry/Ra≤5.50;
式中,Ry表示轮廓最大高度,Ra表示轮廓算数平均偏差。
3.如权利要求1所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述表面轮廓纵向均匀度关系式为:1.00≤Ry/Rz≤1.50;
式中,Ry表示轮廓最大高度,Rz表示轮廓十点平均粗度。
4.如权利要求1所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述表面轮廓横向均匀度关系式为:1.00≤S/Sm≤2.65;
式中,S表示轮廓的单峰平均间距,Sm表示轮廓微观不平度的平均间距。
5.如权利要求1所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述表面轮廓横向均匀度关系式为:A≤E=N/l;
式中,E表示粗化处理面的粗化粒子密度,N表示单位取样长度上的轮廓峰个数,l表示取样长度。
6.如权利要求1所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述金属箔层背向所述绝缘基膜层的一表面为光滑表面。
7.如权利要求1所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述绝缘基膜层由热固性聚酰亚胺、热塑性聚酰亚胺、改性环氧树脂类、改性丙烯酸类、改性橡胶类、改性热塑性聚酰亚胺类、改性聚氨酯类树脂中的至少一种制成;
所述金属箔层由金属材料制成,所述金属材料为铝、钛、锌、铁、镍、铬、钴、铜、银、金、钼中的至少一种,或者为以上所列金属单质中的至少两种形成的合金。
8.如权利要求1所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述绝缘基膜层的上下表面各设置一金属箔层时,二所述金属箔层的粗化处理面的若干粗糙度参数相同或不同。
9.如权利要求1~8任一项所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述金属箔层的粗化处理面与所述绝缘基膜层之间设置粘胶层。
10.如权利要求9所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述粘胶层由热塑性聚酰亚胺类、改性环氧树脂类、改性丙烯酸类、改性聚氨酯类、改性酚醛树脂类树脂中的至少一种制成。
11.一种电子装置,其特征在于,包括如权利要求1~10任一项所述的挠性覆金属板。
12.如权利要求1所述的挠性覆金属板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
所述金属箔层的粗化处理面形成由化学镀方式、PVD、CVD、蒸发镀、溅射镀、电镀或者其复合工艺;
通过层压法将所述金属箔层和所述绝缘基膜层进行层压,得到两层单面型挠性覆金属板/两层双面型挠性覆金属板。
13.如权利要求9所述的挠性覆金属板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
所述金属箔层的粗化处理面形成由化学镀方式、PVD、CVD、蒸发镀、溅射镀、电镀或者其复合工艺;
通过层压法将所述金属箔层、所述粘胶层、所述绝缘基膜层进行层叠压合,得到三层单面型挠性覆金属板/三层双面型挠性覆金属板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州方邦电子股份有限公司,未经广州方邦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210595813.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。