[发明专利]一种挠性覆金属板、电子装置及挠性覆金属板的制作方法有效

专利信息
申请号: 202210595813.4 申请日: 2022-05-27
公开(公告)号: CN114953640B 公开(公告)日: 2023-10-20
发明(设计)人: 苏陟;周街胜;周涵钰 申请(专利权)人: 广州方邦电子股份有限公司
主分类号: B32B15/20 分类号: B32B15/20
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 陈志明
地址: 510530 广东省广州市广州*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 挠性覆 金属板 电子 装置 制作方法
【权利要求书】:

1.一种挠性覆金属板,其特征在于,包括绝缘基膜层和设置在所述绝缘基膜层至少一表面的金属箔层;

所述金属箔层面向所述绝缘基膜层的一表面为粗化处理面,所述粗化处理面的若干粗糙度参数满足表面轮廓纵向均匀度关系式,和/或,表面轮廓横向均匀度关系式。

2.如权利要求1所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述表面轮廓纵向均匀度关系式为:2.00≤Ry/Ra≤5.50;

式中,Ry表示轮廓最大高度,Ra表示轮廓算数平均偏差。

3.如权利要求1所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述表面轮廓纵向均匀度关系式为:1.00≤Ry/Rz≤1.50;

式中,Ry表示轮廓最大高度,Rz表示轮廓十点平均粗度。

4.如权利要求1所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述表面轮廓横向均匀度关系式为:1.00≤S/Sm≤2.65;

式中,S表示轮廓的单峰平均间距,Sm表示轮廓微观不平度的平均间距。

5.如权利要求1所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述表面轮廓横向均匀度关系式为:A≤E=N/l;

式中,E表示粗化处理面的粗化粒子密度,N表示单位取样长度上的轮廓峰个数,l表示取样长度。

6.如权利要求1所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述金属箔层背向所述绝缘基膜层的一表面为光滑表面。

7.如权利要求1所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述绝缘基膜层由热固性聚酰亚胺、热塑性聚酰亚胺、改性环氧树脂类、改性丙烯酸类、改性橡胶类、改性热塑性聚酰亚胺类、改性聚氨酯类树脂中的至少一种制成;

所述金属箔层由金属材料制成,所述金属材料为铝、钛、锌、铁、镍、铬、钴、铜、银、金、钼中的至少一种,或者为以上所列金属单质中的至少两种形成的合金。

8.如权利要求1所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述绝缘基膜层的上下表面各设置一金属箔层时,二所述金属箔层的粗化处理面的若干粗糙度参数相同或不同。

9.如权利要求1~8任一项所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述金属箔层的粗化处理面与所述绝缘基膜层之间设置粘胶层。

10.如权利要求9所述的挠性覆金属板,其特征在于,所述粘胶层由热塑性聚酰亚胺类、改性环氧树脂类、改性丙烯酸类、改性聚氨酯类、改性酚醛树脂类树脂中的至少一种制成。

11.一种电子装置,其特征在于,包括如权利要求1~10任一项所述的挠性覆金属板。

12.如权利要求1所述的挠性覆金属板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:

所述金属箔层的粗化处理面形成由化学镀方式、PVD、CVD、蒸发镀、溅射镀、电镀或者其复合工艺;

通过层压法将所述金属箔层和所述绝缘基膜层进行层压,得到两层单面型挠性覆金属板/两层双面型挠性覆金属板。

13.如权利要求9所述的挠性覆金属板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:

所述金属箔层的粗化处理面形成由化学镀方式、PVD、CVD、蒸发镀、溅射镀、电镀或者其复合工艺;

通过层压法将所述金属箔层、所述粘胶层、所述绝缘基膜层进行层叠压合,得到三层单面型挠性覆金属板/三层双面型挠性覆金属板。

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