[发明专利]磁共振成像系统、磁共振成像装置、冷却控制装置及冷却控制方法

说明书

目的是能够以更简单的结构提供关于磁铁的冷却的后备系统。有关本实施方式的磁共振成像系统包括第1磁共振成像装置、第1冷却系统、第2磁共振成像装置、第2冷却系统和冷却控制装置。第1磁共振成像装置包括产生静磁场的第1磁铁。第1冷却系统将上述第1磁铁冷却。第2磁共振成像装置包括产生静磁场的第2磁铁。第2冷却系统将上述第2磁铁冷却。冷却控制装置切换上述第1冷却系统及上述第2冷却系统的冷却对象。

相关申请的交叉参照

本申请基于2021年5月26日提出的日本专利申请第2021－088649号主张优先权，这里通过参照而引用其全部内容。

技术领域

实施方式涉及磁共振成像系统、磁共振成像装置、冷却控制装置及冷却控制方法。

背景技术

在许多磁共振成像(MRI)装置中，作为静磁场磁铁的制冷剂而使用液氦。但是，因为近年来的氦的市场价格的上升及需求的激增的原因，有想要减少液氦的使用量的需要。

由于如果制冷剂较少则总散热量也较少，所以在用来使用来冷却静磁场磁铁的冷冻机动作的冷冻机用压缩机或压缩机冷却用的冷水循环装置(也称作冷却器)中有故障的情况下，由于在几分钟到几小时中磁铁内温度上升，所以不能无视达到淬火(quench)的可能性。一旦达到淬火，则为了冷却到可再励磁的温度，需要大量的制冷剂及冷冻机的长时间运转，带来停机时间的增长及成本的增大。

因此，也可以考虑对于1个MRI装置作为后备而分别准备两台冷冻机用压缩机及冷却器，但相应地需要空间，还有存在MRI装置整体的价格上升等的问题。

现有技术文献

专利文献1：日本特表2019－506923号公报

专利文献2：日本特表2019－520910号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

在本说明书及附图中公开的技术方案要解决的技术问题之一，是以更简单的结构提供关于磁铁的冷却的后备系统。但是，在本说明书及附图中公开的技术方案要解决的技术问题并不限于上述技术问题。也可以将与由后述的实施方式所示的各结构带来的各效果对应的技术问题定位为其他技术问题。

有关本技术方案的磁共振成像系统包括第1磁共振成像装置、第1冷却系统、第2磁共振成像装置、第2冷却系统和冷却控制装置。第1磁共振成像装置包括产生静磁场的第1磁铁。第1冷却系统将上述第1磁铁冷却。第2磁共振成像装置包括产生静磁场的第2磁铁。第2冷却系统将上述第2磁铁冷却。冷却控制装置切换上述第1冷却系统及上述第2冷却系统的冷却对象。

发明效果

能够以更简单的结构提供关于磁铁的冷却的后备系统。

附图说明

图1是有关本实施方式的磁共振成像系统的概念图。

图2是表示有关本实施方式的磁共振成像装置的框图。

图3是表示包括冷却系统和冷却控制装置在内的冷却装置的具体的结构例的框图。

图4是表示磁共振成像系统的动作的流程图。

图5是表示在冷却系统的一部分中发生了异常的情况下的切换处理的第1例的图。

图6是表示在冷却系统的一部分中发生了异常的情况下的切换处理的第2例的图。

图7是表示在冷却系统的一部分中发生了异常的情况下的切换处理的第3例的图。

图8是表示冷却系统和磁共振成像装置的台数不同的情况下的一例的框图。

图9是表示通过分时的方式进行冷却的一例的图。

标号说明