[发明专利]批量化超导基带的抛光方法、超导基带

权利要求书

1.一种批量化超导基带的抛光方法，其特征在于，包括步骤：

S1、选择尚未进行电化学抛光的超导基带的一面进行贴膜；

S3、对超导基带未贴膜的另一面进行电化学抛光；

S4、去除超导基带上贴的膜；

所述电化学抛光的电抛液工作温度为30-80℃，将超导基带作为阴极，在超导基带未贴膜的一面与阳极之间设置有屏蔽板，所述屏蔽板遮挡在超导基带的端部与阳极之间；

阴阳极面积比为（1-3）:1，阴极与阳极正面距离8-36mm，屏蔽板与超导基带的距离0-8mm，屏蔽板垂直投影至超导带材上覆盖超导带材端部1-4mm。

2.根据权利要求1所述的批量化超导基带的抛光方法，其特征在于，在步骤S1和步骤S3之间还包括：

S2、对超导基带未贴膜的另一面进行机械抛光，直至粗糙度达到5nm@50×50μm。

3.根据权利要求2所述的批量化超导基带的抛光方法，其特征在于，所述步骤S2还包括，对机械抛光后的超导基带进行分切。

4.根据权利要求3所述的批量化超导基带的抛光方法，其特征在于，所述分切的方式为无胶垫分切，分切速度为50-500m/h，刀片材质为高速钢，硬度达洛氏硬度HRC62-66。

5.根据权利要求1所述的批量化超导基带的抛光方法，其特征在于，所述电化学抛光是从0.8-5nm@50×50μm的粗糙度抛到0.4-0.7nm@1×1μm的粗糙度。

6.根据权利要求1所述的批量化超导基带的抛光方法，其特征在于，所述电化学抛光的电抛液成分为：

98%浓硫酸 10-30%

85%浓磷酸 70-90%

柠檬酸 0.5-3%

甘油 0.5-3%。

7.根据权利要求1所述的批量化超导基带的抛光方法，其特征在于，电化学抛光的设备为卷对卷电化学抛光装置，抛光过程包括：放料、带材前洗、电化学抛光、带材后洗、烘干、带材厚度及缺陷在线检测和收料。

8.根据权利要求1所述的批量化超导基带的抛光方法，其特征在于，去除超导基带上贴的膜所用的设备包括：

收料机构、放料机构、定位导轮组以及撕膜机构，所述定位导轮组设置在所述收料机构与所述放料机构之间，所述撕膜机构设置于所述定位导轮组下方。

9.一种超导基带，其特征在于，采用权利要求1-8任一项所述的批量化超导基带的抛光方法制备得到。

10.一种超导带材，其特征在于，包括权利要求9所述的超导基带，在所述超导基带上依次制备缓冲层、超导层和保护层。