[发明专利]一种显影喷嘴在审

专利信息
申请号: 202210520589.2 申请日: 2022-05-13
公开(公告)号: CN114832957A 公开(公告)日: 2022-08-02
发明(设计)人: 程虎;邓岗 申请(专利权)人: 上海芯源微企业发展有限公司
主分类号: B05B1/36 分类号: B05B1/36;B05B1/04;G03F7/30
代理公司: 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 代理人: 黄海霞
地址: 201306 上海市浦东新区临*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 显影 喷嘴
【说明书】:

本发明提供了提供一种显影喷嘴,包括:喷嘴主体,所述喷嘴主体设有底部开口,用于喷淋显影液;引导显影液流动的导流管,所述导流管固定设置于所述喷嘴主体内,其顶部设有小孔,使显影液充满所述导流管后,从所述小孔中溢出,经所述导流管外壁从所述底部开口流出,降低了显影液喷淋的冲击力,有利于使从所述喷嘴主体开口处各个位置流出的显影液对基片的冲击力均匀,进而使得基片显影的反应程度均匀。

技术领域

本发明涉及半导体领域,尤其涉及一种显影喷嘴。

背景技术

显影是用显影液将印版上经过曝光形成的潜影显出来的过程,显影工艺过程包括喷淋显影液、冲洗、烘干等过程。在显影过程中,经过显影液均匀、连续的喷洒,将印版的感光层迅速溶解。

公告号为CN101697065B中国专利公开了一种显影装置,其喷嘴开口为狭缝状的喷出口,喷嘴喷淋时靠近显影液注入口位置的冲击力大,远离注入口位置的冲击力小,难以保证长度方向上喷洒的冲击力的一致性,进而导致基片显影的反应程度不均匀。

因此,有必要开发一种新型喷嘴结构,以避免现有技术中存在的上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显影喷嘴,能够均衡显影液喷淋在基片上各个位置的冲击力,使得基片显影的反应程度均匀。

为实现上述目的,本发明提供的显影喷嘴包括:喷嘴主体,所述喷嘴主体设有底部开口,用于喷淋显影液; 引导显影液流动的导流管,所述导流管固定设置于所述喷嘴主体内,所述导流管顶部设有小孔,当显影液充满所述导流管后,所述显影液从所述小孔中溢出,经所述导流管外壁从所述底部开口流出。

本发明提供的显影喷嘴的有益效果在于:显影液从所述导流管的小孔中溢出后沿所述导流管的外壁流下,降低了显影液喷淋的冲击力,有利于使从所述喷嘴主体开口处各个位置流出的显影液对基片的冲击力均匀,进而使得基片显影的反应程度均匀。

可选的,所述导流管的截面形状为圆形或椭圆形。其有益效果在于:有利于显影液沿导流管外壁流下。

可选的,所述导流管的材料为亲水性矿物材料。其有益效果在于:亲水性矿物对水有较大的亲和能力,可以吸引水分子,有利于在显影液流动的过程中降低流速。

可选的,所述亲水性矿物材料为石英、方解石、云母中的任意一种。

可选的,所述显影喷嘴还包括供液管,所述供液管与所述导流管相互连通,用于向所述导流管注入显影液。

可选的,所述供液管相对设置于所述导流管的两端。其有益效果在于:有利于平衡导流管两端的压力。

可选的,所述显影喷嘴还包括固定连接所述导流管、所述喷嘴主体和所述供液管的固定块,所述固定块为内外轮廓均为阶梯形的空心构件,以固定所述导流管、所述喷嘴主体和所述供液管三者的相对位置。其有益效果在于:提高连接的稳定性。

可选的,所述显影喷嘴还包括设置于所述供液管的流量调节阀。其有益效果在于:调节显影液喷淋的流量。

可选的,所述供液管与所述导流管之间设有密封圈。其有益效果在于:有利于防止显影液从导流管两端溢出。

可选的,所述喷嘴主体材料为亲水材质。其有益效果在于:亲水性材料对水有较大的亲和能力,可以吸引水分子,有利于减小喷淋压力。

可选的,所述喷嘴主体的材料经亲水处理。其有益效果在于:材料经亲水处理后可以吸引水分子,当停止喷淋时,有利于减小喷淋压力。

可选的,所述显影喷嘴还包括滑动设置于所述喷嘴主体的阻挡片,以改变所述底部开口大小。其有益效果在于:有利于对不同尺寸的基片进行显影液喷淋。

可选的,所述底部开口宽度为2.5mm至3.5mm。

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