[发明专利]一种建筑工程用二维微形变检测装置在审
申请号: | 202210483407.9 | 申请日: | 2022-05-06 |
公开(公告)号: | CN114777663A | 公开(公告)日: | 2022-07-22 |
发明(设计)人: | 何峥晖;张青苗 | 申请(专利权)人: | 江苏悟空风行科技有限公司 |
主分类号: | G01B11/16 | 分类号: | G01B11/16 |
代理公司: | 无锡盛阳专利商标事务所(普通合伙) 32227 | 代理人: | 刘瑞平;顾朝瑞 |
地址: | 214000 江苏省无锡市新*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 建筑工程 二维 形变 检测 装置 | ||
本发明提供了一种建筑工程用二维微形变检测装置,可以测量二维形变,其结构精巧,便于安装调试和测量使用,提高了微形变检测的效率,降低了成本,其特征在于:所述装置包括激光发射器组件、位移成像测量组件和控制器;所述激光发射器组件包括激光头、分光镜和发射器支架,所述激光头和分光镜均固定在发射器支架上,所述激光头的射出光线垂直于分光镜的入射面;所述位移成像测量组件包括底板和两组CCD幕布成像靶标,所述两组CCD幕布成像靶标固定在底板上且其中心分别正对分光镜的两束射出光线的中心;所述控制器安装在底板上且分别与激光头、两组CCD幕布成像靶标电性连接;所述发射器支架和底板上均开设有固定孔且两者通过弹性连接板连接。
技术领域
本发明涉及建筑工程监测设备相关技术领域,具体涉及一种建筑工程用二维微形变检测装置。
背景技术
在建筑工程领域,常常需要检测细微的形变,例如桥梁结构的局部形变、危墙裂缝的形变位移等等。传统的方法是贴应变片,或其他拉线式测量设备,这些测量设备通常都较为精细,安装调试和测量过程都需要较高的水平经验,而且使用过程中容易损坏,成本较高,在测量精度和测量行程上难以兼顾,并且通常只能测量单一维度的形变,要想获得二维的形变,需要安装多个测量设备来实现,增加了安装调试和测量过程的难度以及成本。
发明内容
为了解决上述内容中提到的问题,本发明提供了一种建筑工程用二维微形变检测装置,可以测量二维形变,其结构精巧,便于安装调试和测量使用,提高了微形变检测的效率,降低了成本。
其技术方案是这样的:
一种建筑工程用二维微形变检测装置,其特征在于:所述装置包括激光发射器组件、位移成像测量组件和控制器;所述激光发射器组件包括激光头、分光镜和发射器支架,所述激光头和分光镜均固定在发射器支架上,所述激光头的射出光线垂直于分光镜的入射面;所述位移成像测量组件包括底板和两组CCD幕布成像靶标,所述两组CCD幕布成像靶标固定在底板上且其中心分别正对分光镜的两束射出光线的中心;所述控制器安装在底板上且分别与激光头、两组CCD幕布成像靶标电性连接;所述发射器支架和底板上均开设有固定孔且两者通过弹性连接板连接。
进一步的,所述装置还包括支架盖、底板盖和弹性防护罩,所述支架盖安装在发射器支架上,所述底板盖安装在底板上,所述支架盖和底板盖之间通过弹性防护罩连接。
进一步的,所述分光镜分出两束互为90度的射出光线,所述两组CCD幕布成像靶标互成90度固定在底板上。
进一步的,所述的CCD幕布成像靶标包括幕布、暗室、镜头和CCD图像传感器。
进一步的,所述激光头发射的激光束为可见光或者不可见光。
进一步的,所述CCD图像传感器可替换为CMOS图像传感器。
进一步的,所述控制器上安装有温度传感器。
本发明的有益效果为:
本发明装置通过发射器支架和底板上的固定孔将激光发射器组件、位移成像测量组件分别固定在裂缝两侧的墙体上,由于发射器支架和底板通过弹性连接板连接,使得裂缝两侧墙体的微形变引起发射器支架和底板的相对位移,最终引起经分光镜分射出的两束激光分别在对应的CCD幕布成像靶标的成像位置发生变化,最后通过控制器根据成像位置的变化解算得到二维微形变测量结果;因此本装置通过精巧的结构设计,降低了安装调试和测量使用的难度,并且可以实时获取二维微形变的测量数据,达到了提高微形变检测的效率、降低成本的技术效果。
附图说明
图1是本发明的外形示意图;
图2是本发明的主体结构示意图;
图3是激光发射器组件结构示意图;
图4是位移成像测量组件结构示意图;
图5是支架盖、底板盖和弹性防护罩结构示意图;
图6是CCD幕布成像靶标剖面示意图。
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