[发明专利]一种反应釜清洗装置

权利要求书

1.一种反应釜清洗装置，其特征在于：包括反应釜本体(1)，所述反应釜本体(1)的顶部设有釜盖(2)，所述釜盖(2)的中心处转动设置有清洗转轴(3)，所述清洗转轴(3)上设置有清洗组件，所述清洗转轴(3)的底部设有底板(4)，所述底板(4)的左右两端设有与反应釜本体(1)内壁相接触的刮料部(41)，所述底板(4)的底部设有与反应釜本体(1)的底壁相接触的清洗刷毛(42)，所述清洗转轴(3)的底部设有缓冲槽(31)，所述缓冲槽(31)内插设有活动杆(32)，活动杆(32)的一端设有卡块(33)，所述卡块(33)位于缓冲槽(31)内，所述缓冲槽(31)的槽底设有缓冲弹簧(34)，所述缓冲弹簧(34)与所述卡块(33)相抵接，所述活动杆(32)远离卡块(33)的另一端连接有底板(4)，所述釜盖(2)的顶部两侧设伸缩液压缸(21)，所述伸缩液压缸(21)的输出端安装有固定环(22)，固定环(22)焊接在清洗转轴(3)的外侧壁上，所述固定环(22)的上表面设置有旋转电机(23)，所述旋转电机(23)的输出端设有齿轮(24)，所述清洗转轴(3)的上方套设有齿形连接套(25)，所述齿轮(24)与齿形连接套(25)互相啮合。

2.如权利要求1所述的反应釜清洗装置，其特征在于：所述清洗组件包括若干若干设置在清洗转轴(3)上的空心管(8)，空心管(8)在清洗转轴(3)上交错设置，所述空心管(8)远离清洗转轴(3)的一端连接有清洗喷头(81)，所述清洗转轴(3)的内部设有进水通道(30)，所述进水通道(30)与所述空心管(8)相连通，所述清洗转轴(3)位于反应釜本体(1)外部的一端连接有柔性的进水管(35)，所述进水管(35)连接有高压泵(36)。

3.如权利要求1所述的反应釜清洗装置，其特征在于：所述清洗转轴(3)位于反应釜本体(1)外的一侧设有第一限位环(37)，所述清洗转轴(3)位于反应釜本体(1)内的一侧设有第二限位环(38)。

4.如权利要求2所述的反应釜清洗装置，其特征在于：所述清洗组件还包括若干设置在清洗转轴(3)上的连接杆(5)，连接杆(5)在清洗转轴(3)上交错设置，所述连接杆(5)远离清洗转轴(3)的一侧设有刮板(6)，所述刮板(6)的外侧边缘与反应釜本体(1)的内壁相接触。

5.如权利要求4所述的反应釜清洗装置，其特征在于：所述连接杆(5)的连接端开设有限位槽(51)，所述限位槽(51)内设有压紧弹簧(52)，所述刮板(6)的连接端设有限位柱(64)，所述限位柱(64)的一端设有卡环(65)，所述卡环(65)与压紧弹簧(52)相抵接。

6.如权利要求4所述的反应釜清洗装置，其特征在于：所述刮板(6)包括主板(61)，所述主板(61)上靠近连接杆(5)的一侧铰接设置有副板(62)，所述主板(61)和副板(62)相向的一面通过连接弹簧(63)连接。

7.如权利要求6所述的反应釜清洗装置，其特征在于：所述清洗转轴(3)上设置有振动器(7)。

8.如权利要求7所述的反应釜清洗装置，其特征在于：所述主板(61)靠近连接杆(5)一端的材料为柔性的硅胶材质，所述主板(61)和所述副板(62)反应釜本体(1)的内壁相接触的一端设有耐磨刮头(66)，所述耐磨刮头(66)为碳化硅陶瓷材料。

9.如权利要求8所述的反应釜清洗装置，其特征在于：同一高度的清洗转轴(3)上分别设有一个连接杆(5)和一个空心管(8)，所述连接杆(5)和空心管(8)分别位于清洗转轴(3)的两侧，所述连接杆(5)和空心管(8)自上而下螺旋分布。