[发明专利]一种废稀释剂处理方法

说明书

本申请实施例公开一种废稀释剂处理方法，其中方法包括如下步骤：将正性光刻胶、负性光刻胶和辅料罐中的溶液加入蒸馏搅拌釜进行混合生成混合溶液；对所述混合溶液进行蒸馏得到馏分和蒸馏后的混合物；将所述蒸馏后的混合物进行压滤得到滤液和残渣，将所述滤液加入所述辅料罐中；对所述馏分进行分离得到丙二醇甲醚醋酸酯和丙二醇甲醚醋酸酯的饱和溶液，将所述丙二醇甲醚醋酸酯的饱和溶液加入所述辅料罐中；所述丙二醇甲醚醋酸酯用于生成稀释剂产品。采用本申请，可以减少有机溶剂的损失，降低釜底液委外焚烧处理及含稀释剂废水处理成本。

技术领域

本发明属于废稀释剂处理领域，涉及一种废稀释剂处理方法。

背景技术

液晶显示面板生产制造领域，光刻胶技术被广泛应用。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶，使用在液晶面板生产中的Array制程，主要成分是酚醛树脂光刻胶。反之，该涂层材料为负性光刻胶，使用在液晶面板生产中的CF制程，主要成分为丙烯酸树脂光刻胶。在上述两个制程中，稀释剂被用于清洗涂布光刻胶的喷嘴及光照反应后的光刻胶，稀释剂的主要成分是丙二醇甲醚醋酸酯。同时含有3-甲氧基丙酸甲酯、环己酮、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丁基乙酸酯等溶剂中的一种或多种，树脂单体、树脂以及颜料、碳黑、分散剂及光引发剂等。

目前，废稀释剂主要是通过精馏方式实现资源化利用，其主要分为三个处理流程，依次为脱胶、除水、脱重出产品。其中在脱去光刻胶流程中，伴随着加热，釜式换热器内有机溶剂减少，光刻胶变得粘稠，很容易在换热器管束中结胶，出现严重影响换热效果、清理结胶周期长降低生产效率、换热器管束使用寿命缩短三个问题，因此，目前实际生产中只能在釜底液尚未严重结胶时将釜底液放出，此时釜底液中仍含有大量有机溶剂，这不仅浪费大量有机溶剂，而且增加釜底液委外处理量，极大降低废稀释剂在资源化利用时的收率与收益。

废稀释剂蒸馏釜底液的固液分离技术领域研究较少，当前发现一种向釜底液添加路易斯碱，静止分层后离心从而达到固液分离的目的。经研究，发现此方法仍存在三方面的缺陷：(1)需要外加废稀释剂釜底液成分以外的辅料，同时在回收产品过程中需把辅料再次精馏剔除，工业化成本较高(2)静止分层耗费时间较长(3天)，生产效率较低(3)滤渣粘稠，实际生产中输送困难，难以从釜中放出。

为回收釜底液中仍含有大量有机溶剂，同时减少釜底液委外焚烧无害化处理量，提升废稀释剂资源化利用效益，笔者提出一种弥补上述方法技术缺陷、成本低且利于工业化生产的方法。

发明内容

本发明针对现有技术的不足，提出一种废稀释剂处理方法，以解决废稀释剂资源化釜底液中大量有机溶剂的损失，最大程度回收有机溶剂机及减少光刻胶二次废物的产生量。发明内容包括三点。

其一，将正负性光刻胶釜底液以1：1比例混合后，加入水或废稀释剂资源化利用产生的含有低浓度稀释剂的废水，水与釜底液中的稀释剂(丙二醇甲醚醋酸酯)共沸带出大量丙二醇甲醚醋酸酯，蒸馏后，接收罐产物有分层现象，上层为高浓度的丙二醇甲醚醋酸酯溶液，下层为丙二醇甲醚醋酸酯饱和溶液。蒸馏釜内含少量丙二醇甲醚醋酸酯、其他少量有机溶剂以及绝大部分的水和光刻胶，由于光刻胶易溶于丙二醇甲醚醋酸酯且具有吸水性，随着大量丙二醇甲醚醋酸酯被带出，光刻胶吸水结团，在蒸馏釜中搅拌放出压滤，滤渣再经由盘管式真空烘干机烘干，烘干机连接冷凝器，用于回收滤渣内溶剂，最后滤渣通过焚烧处置达到无害化。笔者的方法相比于目前市面上直接釜底液委外焚烧处理方法，丙二醇甲醚醋酸酯回收率较高，极大减少了有机溶剂的损失，降低釜底液委外焚烧处理及含稀释剂废水处理成本，回收增加产品量提高生产利润。

其二，水作为废稀释剂中原本就存在的组分，用水或生产过程中产生的废水作为生产辅料，成本低廉易得，且在生产过程中循环利用，避免给产品带来新的杂质，无需再次分离提纯。

其三，在水的稀释下，通过搅拌后水与光刻胶混合较均匀，易于放出解决了原本粘稠的釜底液在管道中输送困难的痛点，有利于工业化生产。