[发明专利]基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列及制备方法

权利要求书

1.一种基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列的制备方法，其特征在于，该方法采用纳米压印的方法精确调节微滤光片阵列滤光膜系中法布里-珀罗腔的厚度，具体分为下述步骤：

步骤一，根据目标光谱特性，设计法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系，选择衬底，在衬底上制备微滤光片阵列；

步骤二，设计印章，根据图像传感器像素尺寸，确定印章图形单元的尺寸；根据微滤光片阵列中各个微滤光单元的法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系的工作波长，确定各个微滤光单元的法布里-珀罗腔厚度，从而确定印章各个图形单元的厚度；

步骤三，根据法布里-珀罗腔材料及厚度调控范围，选择具有抗刻蚀性能的压印材料；

步骤四，在衬底上制备套刻标记；

步骤五，制备法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系的下部周期层和法布里-珀罗腔；

步骤六，涂覆压印材料，利用纳米压印形成具有不同厚度的压印图形；

步骤七，以具有不同厚度的压印图形为掩膜，利用刻蚀的方法将压印图形厚度转移为各个微滤光单元法布里-珀罗腔的不同厚度；

步骤八，制备法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系的上部周期层，因各个微滤光单元法布里-珀罗腔具有不同的厚度，故微滤光片阵列具有一系列工作波长；

步骤九，划片；

步骤十，与图像传感器对准并粘合封装。

2.一种根据权利要求1所述基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列的制备方法，其特征在于：步骤一中，也可以直接在图像传感器靶面上制备微滤光片阵列。

3.一种根据权利要求1所述基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列的制备方法，其特征在于：步骤一中，衬底材料为玻璃、石英或者蓝宝石。

4.一种根据权利要求1所述基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列的制备方法，其特征在于：步骤一中，微滤光片阵列可以是2×2、3×3、4×4、5×5或者其他的周期性单元，对应的是4通道、9通道、16通道、25通道及更多通道数的图像传感器。

5.一种根据权利要求1所述基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列的制备方法，其特征在于：也可以将压印材料直接用作制备法布里-珀罗周期性干涉滤光膜系的法布里-珀罗腔腔层。

6.一种根据权利要求1所述基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列的制备方法，其特征在于：对于曲面结构的特殊情况，可以将微滤光片阵列加工在柔性衬底上，适用于可穿戴消费电子产品的生产。

7.一种基于纳米压印的马赛克快照式微滤光片阵列，其特征在于：所述阵列采用基于权利要求1至6任一项所述方法进行制备。