[发明专利]高光渲染方法、装置、介质及电子设备

权利要求书

1.一种高光渲染方法，其特征在于，所述方法包括：

获取待渲染的高光形状的高光图像和头发模型；

根据所述高光图像确定所述高光形状对应的高光强度参数，并根据所述高光图像确定所述高光形状对应高光偏移参数；

根据所述高光偏移参数和所述头发模型进行各向异性高光计算，获得各向异性偏移图像；

基于所述高光强度参数对所述各向异性偏移图像进行强度叠加，获得与所述高光图像对应的高光渲染图像。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述高光图像确定所述高光形状对应的高光强度参数，包括：

针对所述高光图像的图像矩阵中的每一列，将所述列中各个像素点的特征值进行累加，并根据所述列对应的累加结果确定所述列的高光强度参数；

基于所述图像矩阵中的每一列的高光强度参数，确定所述高光形状对应的高光强度参数。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述高光图像确定所述高光形状对应高光偏移参数，包括：

针对所述高光图像的图像矩阵中的每一列，确定所述列对应的高光形状的中心行号；

根据所述列对应的高光形状的中心行号和所述高光图像对应的中心行号，确定所述列的高光偏移参数；

基于所述高光图像中的每一列的高光偏移参数，确定所述高光形状对应的高光偏移参数。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述基于所述高光图像中的每一列的高光偏移参数，确定所述高光形状对应的高光偏移参数，包括：

将每一列的高光偏移参数映射目标范围内，获得每一列分别对应的偏移映射值，其中，所述目标范围的取值为正值；

将每一列分别对应的偏移映射值形成的参数图像矩阵，确定为所述高光形状对应的高光偏移参数。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述高光偏移参数和所述头发模型进行各向异性高光计算，获得各向异性偏移图像，包括：

获取头发模型对应的渲染参数，所述渲染参数包括世界空间法线、世界空间切线、世界空间副法线、世界空间视线方向和世界空间光源方向；

基于所述高光偏移参数和所述世界空间法线，对所述世界空间副法线进行偏移，获得更新后的世界空间副法线；

基于包含更新后的世界空间副法线的渲染参数进行各向异性高光计算，获得各向异性偏移图像。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述高光强度参数对所述各向异性偏移图像进行强度叠加，获得与所述高光图像对应的高光渲染图像，包括：

基于所述高光强度参数和预设指数进行指数运算，获得强度对比参数；

基于所述强度对比参数和所述各向异性偏移图像中的高光值进行强度叠加，获得所述高光渲染图像。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述基于所述强度对比参数和所述各向异性偏移图像中的高光值进行强度叠加，获得所述高光渲染图像，包括：

对所述各向异性偏移图像中的高光值进行强度叠加所得的高光值进行平滑处理；

根据平滑处理后所得的高光值生成所述高光渲染图像。

8.一种高光渲染装置，其特征在于，所述装置包括：

获取模块，用于获取待渲染的高光形状的高光图像和头发模型；

确定模块，用于根据所述高光图像确定所述高光形状对应的高光强度参数，并根据所述高光图像确定所述高光形状对应高光偏移参数；

第一处理模块，用于根据所述高光偏移参数和所述头发模型进行各向异性高光计算，获得各向异性偏移图像；

第二处理模块，用于基于所述高光强度参数对所述各向异性偏移图像进行强度叠加，获得与所述高光图像对应的高光渲染图像。

9.一种计算机可读介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，该程序被处理装置执行时实现权利要求1-7中任一项所述方法的步骤。

10.一种电子设备，其特征在于，包括：

存储装置，其上存储有计算机程序；

处理装置，用于执行所述存储装置中的所述计算机程序，以实现权利要求1-7中任一项所述方法的步骤。