[发明专利]一种新型水循环洗消方舱

权利要求书

1.一种新型水循环洗消方舱，其特征在于，包括：舱体，所述舱体内具有相互分隔的洗消间（100）和设备间（200），且所述舱体的外壁设置有手动升降机构（300）；

所述洗消间（100）的底部具有污水箱（101），所述污水箱（101）通过管路与洗消间（100）地面的地漏（102）连接，所述洗消间（100）的前壁上设置有多个超薄射流洗消喷头（103），洗消间后壁设置有储藏柜（104），洗消间顶部设置有多个洗消花洒（105）；

所述设备间（200）内部设置有水泵单元（201）、膜组件单元（202）和低温等离子处理单元（203），水泵单元（201）的进液口通过管路与污水箱（101）连接，水泵单元（201）出液口通过管路与膜组件单元（202）进液口连接，膜组件单元（202）浓水出口通过管路与污水箱（101）连接，膜组件单元（202）净水出口与低温等离子处理单元（203）进口通过管路相连，低温等离子处理单元（203）出口经管路连接至洗消间（100）前壁上的超薄射流洗消喷头（103）和洗消间顶部的洗消花洒（105）。

2.根据权利要求1所述的一种新型水循环洗消方舱，其特征在于，所述洗消间（100）的左壁设置有第一洗消舱门（106）和与所述第一洗消舱门（106）相对应的第一舱门门外翻板机构（110），所述洗消间（100）的右壁设置有第二洗消舱门（107）和与所述第二洗消舱门（107）相对应的第二舱门门外翻板机构（112），所述洗消间（100）的后侧壁设置有第三洗消舱门（108）。

3.根据权利要求1所述的一种新型水循环洗消方舱，其特征在于，所述洗消间（100）的顶部设置有多个防水照明灯（109）。

4.根据权利要求2所述的一种新型水循环洗消方舱，其特征在于，所述洗消间（100）的左壁位于所述一洗消舱门（106）的下方位置设置有第一检修口（111），所述洗消间（100）的右壁位于所述第二洗消舱门（107）的下方位置设置有第二检修口（113）。

5.根据权利要求1所述的一种新型水循环洗消方舱，其特征在于，所述洗消间（100）的后侧壁位于所述第三洗消舱门（108）两侧的位置设置有第一电动排风口（114）。

6.根据权利要求1所述的一种新型水循环洗消方舱，其特征在于，所述设备间（200）的左壁中部设置有电动进风口（204），所述设备间（200）的前侧壁靠近上的位置设置有第二电动排风口（207）。

7.根据权利要求6所述的一种新型水循环洗消方舱，其特征在于，所述设备间（200）的左壁位于所述电动进风口（204）下方的位置设置有多个第三检修口（205），所述设备间（200）的前壁位于所述第二电动排风口（207）下方的位置设置有第四检修口（208），所述设备间（200）的右壁设置有设备舱门（206）。

8.根据权利要求1所述的一种新型水循环洗消方舱，其特征在于，所述水泵单元（201）包括水泵和和与所述水泵进出口连接的背压阀，所述水泵单元（201）与所述污水箱（101）之间还连接有调节阀。

9.根据权利要求1所述的一种新型水循环洗消方舱，其特征在于，所述膜组件单元（202）包括罐体、安装于所述罐体内的反渗透膜、安装在所述罐体的污水进口和净水出口处的压力传感器、设置在所述罐体的净水出口和浓水出口的流量传感器和设置在所述罐体的浓水出口的调节阀。

10.根据权利要求1所述的一种新型水循环洗消方舱，其特征在于，所述低温等离子处理单元（203）包括低温等离子体反应器和用于在所述低温等离子体反应器内产生低温等离子体的高频高压电源。