[发明专利]一种用于K+

权利要求书

1.一种用于K⁺电化学传感器的MOF复合多孔敏感膜的制备方法，其特征在于：

1）配比：

KMOF 3mg

聚合物基体材料 30～60mg

o-NPOE 70～200mg

18-冠醚 5mg

NaTFPB 5mg

四氢呋喃 5～10ml ；

2）制备：

按比例称取适量的KMOF、聚合物基体材料、增塑剂O-NPOE、离子载体18-冠醚和离子定域剂 NaTFPB，然后将它们共同溶于重蒸馏后的四氢呋喃溶液中，磁力搅拌并超声振荡，待其充分溶解后，将其倾倒在干净的玻璃片上，在干燥的室温下放置48~72小时待溶剂自然挥发，得到了一张厚度为0.2~0.5mm的富有弹性且半透明的MOF复合多孔敏感膜。

2.根据权利要求1所述的一种用于K⁺电化学传感器的MOF复合多孔敏感膜的制备方法，其特征在于：所述的磁力搅拌并超声振荡的时间为30～60分钟。

3.根据权利要求1所述的一种用于K⁺电化学传感器的MOF复合多孔敏感膜的制备方法，其特征在于所述的聚合物基体材料是指硅橡胶、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丁基丙烯酸酯、羟基或羧基功能化的聚氯乙烯中的一种或任意比例的多种混合。