[发明专利]用于工业设备的保护屏障

权利要求书

1.一种用于工业设备(E，E1，E2，E3)的保护屏障，所述工业设备被可燃流体或氧气穿过和/或处理可燃流体或氧气，该保护屏障包括形成平行六面体的四个侧面的四个竖直壁(1，2，3，4，C，C’)，所述四个竖直壁附接至基底以限定出具有矩形横截面的空间，该空间旨在用于容纳布置在所述基底上的所述工业设备，所述四个竖直壁具有至少2.4m的高度，并且包括附接至所述四个竖直壁中的至少一者的至少一个局部顶盖(T1，T2，T3，T4)，所述局部顶盖具有平行于所述基底并且在所述空间上方延伸的表面，所述局部顶盖的表面积或多个所述局部顶盖中的每一个局部顶盖的表面积等于对应于所述矩形横截面的表面积的至多50％，优选至多30％，其特征在于，所述四个竖直壁中的长度等于所述保护屏障的长度的第一壁附接至第一局部顶盖(T1，T4)，并且所述四个竖直壁中的第二壁的高度或隔板(C)的高度大于所述第一壁的高度，所述第二壁或所述隔板平行于所述第一壁。

2.根据权利要求1所述的保护屏障，其包括所述工业设备(E，E1，E2，E3)，所述工业设备至少部分地、优选其覆盖区的至少50％布置在所述局部顶盖或多个所述局部顶盖中的一个局部顶盖的下面。

3.根据权利要求2所述的保护屏障，其中，所述工业设备(E，E1，E2，E3)完全位于所述局部顶盖(T1，T2，T3，T4)的下面。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的保护屏障，其包括容纳在所述具有矩形横截面的空间内的工业设备，其中，所述工业设备(E，E1，E2，E3)仅位于多个所述局部顶盖(T1，T2，T3，T4)中的一个局部顶盖的下面。

5.根据前述权利要求中任一项所述的保护屏障，其中，所述空间的横截面的至少50％未被覆盖。

6.根据前述权利要求中任一项所述的保护屏障，其中，所述保护屏障的开放空间的宽度大于0.75H，其中H是所述保护屏障的至少三个竖直壁(1，2，3，4，C，C’)的高度。

7.根据前述权利要求中任一项所述的保护屏障，其中，所有所述竖直壁(1，2，3，4，C，C’)具有相同的高度。

8.根据前述权利要求中任一项所述的保护屏障，其中，第二局部顶盖(T2，T3)附接至第二壁(2，C)的顶部，所述第一局部顶盖(T1)和所述第二局部顶盖(T2)位于由所述四个竖直壁(1，2，3，4，C，C’)形成的空间的上方。

9.根据权利要求1至7中任一项所述的保护屏障，其中，第二局部顶盖(T3，T4)附接至隔板(C)的顶部，所述第一局部顶盖和所述第二局部顶盖位于由所述第一壁(1，2)、所述四个竖直壁中的其它两个竖直壁(3，4)的一部分和所述隔板(C)的一部分形成的空间的上方。

10.根据权利要求8或9所述的保护屏障，其中，所述第一局部顶盖(T1)位于比所述第二局部顶盖(T2)更低的高度处。

11.根据前述权利要求中任一项所述的保护屏障，其包括容纳在所述具有矩形横截面的空间中的所述工业设备，其中所述工业设备(E，E1，E2，E3)是压缩机、泵、阀、管道或储存单元。