[发明专利]一种带双转盘结构的样本处理装置

权利要求书

1.一种带双转盘结构的样本处理装置，其特征在于：包括第一转盘(10)，所述第一转盘(10)的圆周方向布置有多个转移液接收单元，所述第一转盘(10)的中心设置有第二转盘(20)，所述第二转盘(20)上布置有N个耗材接收架(201)；还包括移液模块(30)，所述移液模块(30)包含至少一个移液子单元组成，所述移液模块(30)在所述第二转盘(20)的一个耗材接收架(201)上摄取安装至少一个耗材，并在所述第二转盘(20)之外的区域进行样本液转移或耗材卸载。

2.根据权利要求1所述的一种带双转盘结构的样本处理装置，其特征在于：所述转移液接收单元包括接收部(101)，所述接收部(101)上通过第一卡接部(1011)连接有深孔板。

3.根据权利要求1所述的一种带双转盘结构的样本处理装置，其特征在于：所述耗材接收架(201)上通过第二卡合部(2011)连接有移液器的Tip头。

4.根据权利要求1所述的一种带双转盘结构的样本处理装置，其特征在于：所述第一转盘(10)与所述第二转盘(20)具有独立的驱动结构，使得两个所述转盘能独立旋转。

5.根据权利要求4所述的一种带双转盘结构的样本处理装置，其特征在于：所述第一转盘(10)被第一电机通过啮合齿轮对传动所驱动，所述第二转盘(20)被第二电机通过带轮传动所驱动。

6.根据权利要求5所述的一种带双转盘结构的样本处理装置，其特征在于：所述啮合齿轮对为低齿数配合高齿数的配置。

7.根据权利要求6所述的一种带双转盘结构的样本处理装置，其特征在于：所述高齿数齿轮由不少于两个的辅助支撑轮支撑。

8.根据权利要求1所述的一种带双转盘结构的样本处理装置，其特征在于：所述第一转盘与所述第二转盘位于相同的水平面上，且所述两个转盘的中心轴基本重合。

9.根据权利要求4所述的一种带双转盘结构的样本处理装置，其特征在于：所述第一转盘(10)完成一圈的旋转时，所述第二转盘(20)旋转不少于1/N圈。

10.权利要求1所述的一种带双转盘结构的样本处理装置，其特征在于：所述转移液接收单元的的数量为6个，所述耗材接收架(201)的数量N为2。