[发明专利]一种知识图谱的更新方法及装置

说明书

本发明提供一种知识图谱的更新方法，包括：获取静态知识图谱，静态知识图谱基于目标数据构建，目标数据包括，半导体制造过程中产生的历史数据；基于当前数据构建动态知识图谱，当前数据为当前预设时间段内半导体制造过程中产生数据；基于动态知识图谱，更新静态知识图谱。本发明提供的知识图谱的更新方法，利用对后续半导体制造过程中产生的数据分析产生的知识，例如缺陷发现以及根因，对静态知识图谱进行不断的更新补全，保证了知识图谱的知识全面性。

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种知识图谱的更新方法及装置。

背景技术

在半导体集成电路制造领域，芯片的良率至关重要，当线上出现良率问题的时候，需要尽快调查到问题根源并及时解决，以便保护生产线的7x24小时正常运转。

现有的良率分析往往需要人工(例如良率分析工程师)进行良率分析，以发现晶圆缺陷及缺陷对应的根因，这往往消耗大量人力和时间，为此可以将融合有工程师经验知识的知识图谱应用于晶圆良率分析，实现基于知识图谱的晶圆良率分析，在知识图谱上进行推理，实现自动晶圆缺陷发现及根因发现。基于知识图谱的晶圆良率分析中知识图谱的知识全面性是关键性因素，因此如何保证知识图谱的知识全面性是需要解决的问题。

发明内容

本发明的实施例提供一种知识图谱的更新方法，利用对后续半导体制造过程中产生的数据分析产生的知识，例如缺陷发现以及根因，对静态知识图谱进行不断的更新补全，保证了知识图谱的知识全面性。

第一方面，本发明提供了一种知识图谱的更新方法，包括：获取静态知识图谱，静态知识图谱基于目标数据构建，目标数据包括，半导体制造过程中产生的历史数据；基于当前数据构建动态知识图谱，当前数据为当前预设时间段内半导体制造过程中产生的与制造相关的数据；基于动态知识图谱，更新静态知识图谱。

本发明提供的知识图谱的更新方法，利用对后续半导体制造过程中产生的数据分析产生的知识，例如缺陷发现以及根因，对静态知识图谱进行不断的更新补全，保证了知识图谱的知识全面性。

在一个可能的实现中，所述静态知识图谱包括多个第一节点，和连接所述多个第一节点的多条第一边，所述第一节点表示所述目标数据中涉及的与所述半导体制造相关的第一实体，所述第一边表示所述多个第一节点之间的关联关系；

所述动态知识图谱包括多个第二节点，和连接所述多个第二节点的多条第二边，所述第二节点表示所述当前数据中涉及的与所述晶圆制造相关的第二实体，所述第二边表示所述多个第二节点之间的关联关系；

所述基于所述动态知识图谱，更新所述静态知识图谱，包括：

将与所述第一节点不同的第二节点，以及与所述第一边不同的第二边补充至所述静态知识图谱中。

在一个可能的实现中，所述动态知识图谱包括多个；

所述基于所述动态知识图谱，更新所述静态知识图谱，包括：

将出现次数大于预设次数的，与所述第一节点不同的第二节点以及与所述第一边不同的第二边，补充至所述静态知识图谱中。

在另一个可能的实现中，所述动态知识图谱包括多个，所述第一边和第二边均具有权重；

所述基于所述动态知识图谱，更新所述静态知识图谱，包括：

基于所述多个动态知识图谱中第二边出现的次数，调整所述静态知识图谱中对应的第一边的权重。

在另一个可能的实现中，所述基于所述动态知识图谱，更新所述静态知识图谱，包括：

将所述静态知识图谱的三元组信息和所述动态知识图谱的三元组信息输入训练完成的图谱融合模型中，得到更新后的静态知识图谱；