[发明专利]一种铜线清洗沉淀系统和方法

权利要求书

1.一种铜线清洗沉淀系统，其特征在于：包括清洗台、冲洗管、水槽、第一沉淀池、第二沉淀池、第三沉淀池、循环水泵和冲洗水管；

所述冲洗管朝下倾斜设置于所述清洗台上方的一侧，所述水槽设置于所述清洗台上方的另一侧，所述冲洗管的输出端连通至所述水槽；

所述第一沉淀池设置于所述水槽的正下方，所述第二沉淀池设置于所述第一沉淀池的一侧，所述第二沉淀池与第一沉淀池之间设置有第一过水板；所述第三沉淀池设置于所述第二沉淀池的一侧，所述第三沉淀池与第二沉淀池之间设置有第二过水板；所述第二过水板的高度低于所述第一过水板的高度；

所述循环水泵的输入端与所述第三沉淀池连接；所述冲洗水管设置有两根，两根所述冲洗水管的一端均与所述循环水泵的输出端连接，两根所述冲洗水管的另一端分别连接于所述冲洗管的两侧。

2.根据权利要求1所述的一种铜线清洗沉淀系统，其特征在于：所述冲洗管的两侧壁分别设置有进水口，所述进水口的外部设置有固定座，两根所述冲洗水管分别与两个所述固定座连接，所述固定座与所述冲洗管的表面呈倾斜角度设置，使得所述冲洗水管以倾斜角度注入清洗水。

3.根据权利要求1所述的一种铜线清洗沉淀系统，其特征在于：所述冲洗管的一端设置有密封塞。

4.根据权利要求1所述的一种铜线清洗沉淀系统，其特征在于：所述第一沉淀池、第二沉淀池和第三沉淀池的底部分别设置有碗状的聚拢盘，所述聚拢盘的底部中央分别设置有排放开关。

5.根据权利要求4所述的一种铜线清洗沉淀系统，其特征在于：所述清洗台的底部设置有收集槽，所述收集槽设置于所述第一沉淀池、第二沉淀池和第三沉淀池的下方，且所述收集槽设置有引导斜坡，所述收集槽的一侧设置有收集开关，所述收集开关设置于所述引导斜坡的下端。

6.根据权利要求1所述的一种铜线清洗沉淀系统，其特征在于：所述水槽的底部呈弧形，在水槽的底部设置有循环下水口，所述第一沉淀池设置于所述循环下水口的正下方。

7.根据权利要求1所述的一种铜线清洗沉淀系统，其特征在于：所述水槽的内部还设置有超声波震动装置，所述超声波震动装置的上端为敞开口，所述超声波震动装置的底面设置有通孔。

8.根据权利要求7所述的一种铜线清洗沉淀系统，其特征在于：所述水槽内设置有第一引导轮、第二引导轮和第三引导轮；

所述第一引导轮设置于所述冲洗管的输出端，所述第二引导轮和第三引导轮分别设置于所述超声波震动装置的两侧。

9.一种铜线清洗沉淀方法，其特征在于：应用于如权利要求1-8任意一项所述铜线清洗沉淀系统，包括以下方法步骤：

向水槽内注入清洗水，清洗水依次流入第一沉淀池、第二沉淀池和第三沉淀池；待第三沉淀池的清洗水的液面高于循环水泵的输入口，启动循环水泵，循环水泵从第三沉淀池内抽取清洗水，通过冲洗水管输出至冲洗管内；

两根冲洗水管从冲洗管的两侧冲入清洗水，使得清洗水在冲洗管内呈螺旋状翻滚地对铜线进行清洗，清洗水冲刷铜线表面的同时，朝冲洗管的下方出口流出；

清洗水带着铜线表面的铜粉杂质进入到水槽内，并沿着水槽流入所述第一沉淀池内，清洗水在第一沉淀池进行沉淀，铜粉杂质沉淀在第一沉淀池的底部，清洗水漫过第一过水板进入第二沉淀池；

进入第二沉淀池的清洗水中的铜粉杂质沉淀在第二沉淀池的底部，清洗水漫过第二过水板进入第三沉淀池；

进入第三沉淀池的清洗水中的铜粉杂质沉淀在第三沉淀池的底部，循环水泵从第三沉淀池的上层清水层内抽取清洗水，通过冲洗水管输出至冲洗管内，循坏作业。