[发明专利]一种云锦妆花缎面料纹样快速生成系统及方法有效
申请号: | 202210265143.X | 申请日: | 2022-03-17 |
公开(公告)号: | CN114622322B | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
发明(设计)人: | 刘正;孙迎;吴诗豪;王青云;邱雪琳;徐雨露;戴健 | 申请(专利权)人: | 浙江理工大学;南京锦绣盛世云锦织造有限公司 |
主分类号: | D03C19/00 | 分类号: | D03C19/00 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 邱启旺 |
地址: | 310018 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 云锦 花缎 面料 纹样 快速 生成 系统 方法 | ||
1.一种云锦妆花缎面料纹样快速生成系统,其特征在于,所述系统包括:
纹样基元库:包含金线、孔雀羽线及缎纹底布三种类型的不同规格;
特征模型建立模块:用于将设计图原稿转化成目标意匠图,所述目标意匠图的参数值具体如下:
Dhw=Dq-x
式中,Nq为单位纹样大纤数,NQ为大纤总数,Z为面料则数,Dq为大纤密度,W为面料幅宽,Dhw为花纬密度,x为调整参数,Nw为单位纹样花纬数,L为设计图像素底宽值,H为设计图像素侧高值;
仿真图像生成模块:用于根据目标意匠图自动生成对应的面料初始仿真图像;所述面料初始仿真图像的面料单位纹样规格映射公式如下:
式中,l为面料单位纹样底宽,h为面料单位纹样侧高,s为实际纹样基元长,nq为意匠图中横向同色连续的意匠格数,t为实际纹样基元高,d1为间丝点横向相邻间距,J为经线数,d2为间丝点纵向相邻错位间距,Nf为缎纹底布组织结构飞数,Nm为缎纹底布组织结构参数的枚数;
填充每个实际纹样基元,获得初始仿真图像,其中,填充金线、孔雀羽线及缎纹底布三种类型的纹样基元根据纹样基元库进行选择填充,填充间丝点的列宽为间丝点侧高为纹样基元高填充花纬丝绒方法如下:根据实际纹样基元生成规格为s×(t-k)的矩形,其中,k表示高度减掉的横向像素点行数,作为花纬丝绒间的空隙;删除s×(t-k)的矩形四个角的像素点模拟花纬丝绒两侧的尖端,同时利用颜色深度变化模拟花纬丝绒纱线的立体性。
2.根据权利要求1所述的云锦妆花缎面料纹样快速生成系统,其特征在于,还包括纹样基元采集模块:用于采集纹样基元,建立纹样基元库。
3.根据权利要求2所述的云锦妆花缎面料纹样快速生成系统,其特征在于,所述的纹样基元是指构成云锦妆花缎面料图像的组成成分,包括:花纬丝绒、金线、孔雀羽线;压住花纬的间丝点,以及缎纹底布;所述建立纹样基元库具体为:采集不同规格的花纬丝绒、金线、孔雀羽线图像并进行数字化编码,设置属性识别标签,完成纹样基元库的构建。
4.根据权利要求1所述的云锦妆花缎面料纹样快速生成系统,其特征在于,还包括:特征参数调节模块:作为设置初始仿真图像的参数调节输入端口,用于设定或修改生成纹样的规格。
5.根据权利要求1所述的云锦妆花缎面料纹样快速生成系统,其特征在于,还包括:仿真图像预览模块,用于查看云锦妆花缎面料织成品的同比仿真图像。
6.一种根据权利要求1所述的系统的云锦妆花缎面料纹样快速生成方法,其特征在于,包括:
将待织造的像素值为L×H彩色设计图及确定的面料幅宽W、面料则数Z、大纤总数NQ和调整参数x输入至特征模型建立模块,获得目标意匠图;
将目标意匠图输入至仿真图像生成模块,并根据纹样基元库选取金线、孔雀羽线及缎纹底布三种类型的纹样基元,同时设置丝绒的参数,生成面料初始仿真图像;根据要求调整金线、孔雀羽线、缎纹底布及丝绒的参数,直至满意。
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