[发明专利]一种新型光纤连接器

说明书

本发明公开了一种新型光纤连接器，包括MT插芯、光纤，MT插芯设有插孔，光纤插入插孔中，光纤的端面和插孔的外侧面之间有通过抛光工艺形成的第一凹槽，光纤的端面与插孔外侧面的外侧镀有AR膜，第一凹槽的深度在2.5um到5.0um之间，AR膜的厚度大于第一凹槽的深度以便光纤端面的AR膜与MT插芯外侧面的AR膜连续连接，多个插孔的尺寸相同。本发明采用含有涤塔夫垫和0.4um氧化铈颗粒的抛光液通过差异化抛光使光纤在插孔的外侧面形成第一凹槽的深度改善为2.5um到5.0um之间，使AR膜在光纤的端面与插孔的外侧面连续连接，保证光纤上AR膜不会脱落，AR膜保护光纤免受直接接触带来的损伤，保证了产品的品质。

技术领域

本发明涉及通讯技术领域，特别涉及一种新型光纤连接器。

背景技术

随着光通信行业不断进步，光纤使用的越来越多。然而光纤连接器对灰尘非常敏感，为此，非接触光纤连接器被苏州莱塔思公司发明出来，其性能优越，改进了多项技术指标，比如提高了光纤连接器寿命，插拔重复性提高了10倍，抗灰尘抗脏污，减少了插损，提高了回损，可与连接器任意互插。但是这种非接触光纤连接器的结构复杂、光纤凹陷深度范围太宽，其由两件组成，一个是前端金属部分金属chip，另一个后端的塑胶部分基座，前端和后端定位难以确保精确定位；其光纤凹陷深度范围为0.1um到10um，凹陷深度范围太宽，在与常规产品对接时（光纤突出0.75um到3.0um），光纤凹陷深度太深时会在光纤之间有一个较大的间隙，最大间隙为9.25um，光纤凹陷深度太浅时，会与光纤接触(最大重合长度为2.9um)从而导致AR膜受损，影响光学性能。

在公开号CN107561650A中，其光纤凹陷也是抛光形成的，但其光纤凹陷深度范围为0.1um到9.9um，由于光纤凹陷深度范围太大，光纤凹陷深度有可能大过AR膜的厚度，以致AR膜在光纤的端面和插孔的外侧面有可能形成不连续的，光纤端面与AR膜之间粘接的面积小，极易脱落，那么AR膜的增透效果就没有了。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种新型光纤连接器，解决光纤凹陷深度范围大而导致AR膜间断的问题。

为了解决上述技术问题，本发明的技术方案为：一种新型光纤连接器，包括MT插芯、光纤，MT插芯设置有与光纤匹配的插孔，光纤插入MT插芯内的插孔中，MT插芯与光纤之间设置有环氧树脂胶胶水以便MT插芯与光纤粘接连接，光纤的端面和插孔的外侧面之间有通过抛光工艺形成的第一凹槽，光纤的端面与插孔外侧面的外侧镀有一层AR膜以便减小光通过的损耗，第一凹槽的深度在2.5um到5.0um之间，AR膜的厚度均匀以便在外侧面形成第二凹槽以便减少与另一对接的光纤的端面之间撞伤，AR膜的厚度大于第一凹槽的深度以便光纤端面的AR膜与MT插芯外侧面的AR膜连续连接，多个插孔的尺寸相同，多个插孔内插入的光纤相同以免经过抛光工艺形成的第一凹槽深度不同；

抛光工艺，包括以下步骤：

1.将光纤插入MT插芯的插孔中，将光纤向外突出在MT插芯的插孔外侧面，使用16um碳化硅砂纸将外侧面的环氧树脂胶胶水和外露的光纤去掉，将外侧面磨平；

2.使用9um碳化硅砂纸将外侧面进行粗抛，抛光压力为0.2Mpa，抛光时间为1-3min；

3.使用3um碳化硅砂纸将外侧面进行细抛，抛光压力为0.2Mpa，抛光时间为1-3min；

4.使用含有涤塔夫垫和0.4um氧化铈颗粒的抛光液将光纤打磨直至第一凹槽为2.5um到5.0um，抛光时间为15-25min；

5.使用含有1um氧化铈颗粒的抛光液将光纤的外侧面抛光，抛光压力为0.2Mpa，抛光时间为1-3min；

6.在已抛光的光纤外侧面镀上一层AR膜以便减少损耗，控制AR膜的厚度为6.0um到10.0um之间以确保光纤端面的AR膜与MT插芯外侧面的AR膜连续连接。

作为本发明的一种优选方案，AR膜的厚度为6.0um到10.0um之间。

作为本发明的一种优选方案，MT插芯的为PPS注塑成型。