[发明专利]一种光学浮区法制备六方结构Ybx 在审
| 申请号: | 202210241940.4 | 申请日: | 2022-03-11 |
| 公开(公告)号: | CN116463714A | 公开(公告)日: | 2023-07-21 |
| 发明(设计)人: | 尚加敏;武安华;苏良碧;张中晗 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 主分类号: | C30B13/00 | 分类号: | C30B13/00;C30B13/28;C30B29/22 |
| 代理公司: | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 曹芳玲;牛彦存 |
| 地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光学 法制 备六方 结构 yb base sub | ||
1.一种光学浮区法制备六方结构YbxIn1-xFeO3单晶的生长方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
步骤A:根据元素化学计量比称量氧化铁、氧化镱、氧化铟为原料并将其混合均匀,在800-1200℃预烧结12-24h,使得原料初步反应形成YbxIn1-xFeO3而又不形成正交相;
步骤B:将预烧结后的材料等静压成型得到原料棒;将原料棒在1000-1200℃烧结12-24h,烧结过程中保持原料棒为水平状态,得到籽晶棒;
步骤C:将籽晶棒作为下料棒,将原料棒作为上料棒,保持上料棒和下料棒的旋转方向相反,待上料棒和下料棒熔化后将其对接并观察熔区稳定性;
步骤D:在熔区达到稳定后启动升降系统,控制上料棒的下降速度为1-5mm/h,下料棒的下降速度为0.5-4.5mm/h,以将晶体的生长速度控制在1-5mm/h的范围内进行晶体生长;
步骤E:晶体生长结束后,第一阶段以0.5-2V/h降温10-24h,第二阶段以2-5V/h降温10-24h,第三阶段以5-15V/h降至室温,得到所述六方结构YbxIn1-xFeO3单晶。
2.根据权利要求1所述的生长方法,其特征在于,0.1≤x≤0.7。
3.根据权利要求1或2所述的生长方法,其特征在于,所述晶体的生长速度为1-3mm/h。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的生长方法,其特征在于,所述预烧结的温度为800-1000℃。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的生长方法,其特征在于,氧化镱在使用前预先在300-600℃干燥8-10h。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的生长方法,其特征在于,步骤D在氧气的生长气氛下进行,氧气的流速为0.1-5L/min。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的生长方法,其特征在于,将预烧结后的材料在成型前进行球磨,磨球和材料的质量比为1:1-3:1,球磨转速为300-400r/min,球磨时间为5-10h。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的生长方法,其特征在于,上料棒和下料棒的转速为8-20 r/min。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的生长方法,其特征在于,所述YbxIn1-xFeO3单晶的直径为4-6mm,长度为30-60mm。
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