[发明专利]光学玻璃超精密加工用低磨料含量和弱酸性抛光液及其制备方法在审
申请号: | 202210227198.1 | 申请日: | 2022-03-08 |
公开(公告)号: | CN114479676A | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
发明(设计)人: | 占稳;刘文志;薛松海;姜超 | 申请(专利权)人: | 机械科学研究总院海西(福建)分院有限公司;武汉材料保护研究所有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人: | 胡茵梦 |
地址: | 365000 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学玻璃 精密 工用 磨料 含量 弱酸 抛光 及其 制备 方法 | ||
1.一种光学玻璃超精密加工用低磨料含量和弱酸性抛光液,其特征在于,抛光液包括纳米磨料、分散剂、增效剂、悬浮剂、消泡剂、蒸馏水和pH调节剂;pH调节剂为氢氧化钠;
纳米磨料为2.5%-4%氧化铈、0-0.5%氧化镧和0-0.3%氧化锆,其中氧化镧和氧化锆含量不同时为0;其中,氧化铈粒径范围200nm-500nm;氧化铈的纯度为65%~99.99%;
分散剂为0.5%-1.5%的聚乙二醇、8%-12%聚丙烯酸、2%—5%六偏磷酸钠其中的一种或多种;
增效剂为0.5%-1%氯化钠和0.5-1%氟化钠;
悬浮剂为0.1%-0.3%的聚丙烯酸钠、0.1%-0.3%聚丙烯酰胺中的一种或多种;
消泡剂为0.1%-0.3%烷基酚聚氧乙烯醚;
pH调节剂调节抛光浆料pH至6~7;
余量为蒸馏水。
2.如权利要求1所述的光学玻璃超精密加工用低磨料含量和弱酸性抛光液,其特征在于,所述纳米磨料采用单一粒径的纳米颗粒磨料或复配粒径的纳米颗粒磨料混合而成。
3.一种如权利要求1~2任一所述的光学玻璃超精密加工用低磨料含量和弱酸性抛光液的制备方法,其特征在于,包括:将装有分散剂的A容器中加入部分蒸馏水,并用磁力搅拌至其完全溶解;再向A容器中依次加入纳米磨料、增效剂、悬浮剂、消泡剂,边加余量蒸馏水边搅拌;缓慢加入少量pH调节剂氢氧化钠溶解在溶液中,调节整个抛光浆料pH在6-7范围内;再将A容器转入带超声波分散功能的B装置中进行搅拌2h-5h,控制B装置中水温不超过45℃。
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