[发明专利]仿岩石层理交错堆积效果的玻璃蚀刻液及玻璃制作工艺

说明书

本发明公开一种仿岩石层理交错堆积效果的玻璃蚀刻液，包括以下原料：NH₄HF₂、NH₄F、ALF₃、HNO₃、H₃PO₄、H₂SO₄、（NH₄）₂SiF₆、BaSO₄、KCl、V₂O₅、烷基苯磺酸钠、山梨糖醇、H₂O，采用此玻璃蚀刻液制得玻璃的工艺步骤为：一、称量原料；二、将称好的原料放置在搅拌容器里进行充分搅拌，直至药液呈现均匀一致的过饱和溶液状态，并静置熟化得到蚀刻药液；三、将洗净后的玻璃原片背面覆膜保护，放入蚀刻药液中进行蚀刻处理；四、将蚀刻完成后的玻璃原片从药液中取出，用纯水清洗干净并风干即可。蚀刻后的玻璃表面特征在微观结构上表现为线理纹路清晰明朗、线理纹路无定向排列、多组不同方向的斜层理互相交错重叠、局部无序排列而整体均匀分布的均一性结构特征。

技术领域

本发明属于玻璃制作技术领域，具体的说是仿岩石层理交错堆积效果的玻璃蚀刻液及玻璃制作工艺。

背景技术

随着智能手机市场的日益竞争的加剧，手机后壳玻璃的蚀刻效果是否新颖独特，成为手机厂商吸引用户的竞争热点，传统的玻璃蒙砂效果已经不能激发人们的需求欲望，只有新颖的特异性蒙砂蚀刻玻璃产品才会满足人们对新品的渴望。

发明内容

本发明为解决上述问题，提供了仿岩石层理交错堆积效果的玻璃蚀刻液及玻璃制作工艺，本方案采用化学酸蚀刻技术，对平板玻璃及手机后壳玻璃进行化学酸蚀刻处理，使玻璃表面在微观结构上呈现出一种类似褶皱岩石层理交错重叠堆积的蚀刻效果，蒙砂蚀刻后的玻璃表面特征在微观结构上表现为线理纹路清晰明朗、线理纹路无定向排列、多组不同方向的斜层理互相交错重叠、局部无序排列而整体均匀分布的均一性结构特征，满足人们对玻璃蒙砂蚀刻创新产品的需求，具有抗划伤、抗指纹、使用寿命长等优良特性。

本发明通过以下技术方案来实现：

一种仿岩石层理交错堆积效果的玻璃蚀刻液，包括以下重量百分比的原料：NH₄HF₂ 10-25%、 NH₄F 3-10%、 ALF₃ 3-5%、 HNO₃ 5-25%、H₃PO₄ 2-10% 、H₂SO₄ 5-18%、（NH₄）₂SiF₆ 2-8%、 BaSO₄ 3-6%、 KCl1.5-5%、V₂O₅ 0.1-0.6%、烷基苯磺酸钠0.2-0.6%、山梨糖醇3-8%、H₂O 12-30%。

一种具有仿岩石层理交错堆积效果的玻璃制作工艺，其包括以下步骤：

步骤一、按照如下配比配制玻璃蚀刻液：以wt%计，NH₄HF₂ 10-25%、 NH₄F 3-10%、ALF₃ 3-5%、 HNO₃ 5-25%、H₃PO₄ 2-10% 、H₂SO₄ 5-18%、（NH₄）₂SiF₆ 2-8%、 BaSO₄ 3-6%、KCl1.5-5%、V₂O₅ 0.1-0.6%、烷基苯磺酸钠0.2-0.6%、山梨糖醇 3-8%、H₂O 12-30%；

步骤二、将称好的原料放置在搅拌容器里进行充分搅拌，直至药液呈现均匀一致的过饱和溶液状态，并静置熟化72小时，得到蚀刻药液；