[发明专利]一种三维流动培养装置、系统及分析方法有效

专利信息
申请号: 202210185327.5 申请日: 2022-02-28
公开(公告)号: CN114456933B 公开(公告)日: 2022-11-15
发明(设计)人: 陈柯洁;覃开蓉;杨治东;周荣信;杨庆陆 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: C12M3/00 分类号: C12M3/00;C12M1/36;C12M1/00;C12Q1/02;B01L3/00;A01K63/00;A01K67/033;A61K49/00
代理公司: 辽宁鸿文知识产权代理有限公司 21102 代理人: 隋秀文
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 三维 流动 培养 装置 系统 分析 方法
【权利要求书】:

1.一种三维流动培养装置,其特征在于,所述的三维流动培养装置(3)包括流道层(3-1)、孔层(3-2)和培养孔板(3-3);流道层(3-1)包括依次连接的液体入口(3-1-1)、液体分流通道(3-1-2)、灌注流道模块(3-1-3)、液体流出通道(3-1-5)和液体出口(3-1-6);灌注流道模块(3-1-3)上包括n×m个灌注流道单元(3-1-4);孔层(3-2)上包括(n+1)×m个灌注孔单元(3-2-1);培养孔板(3-3)上包括(n+1)×m个孔单元;

所述的灌注流道单元(3-1-4)中流道宽度逐渐由小变大,且两端形状为半圆圆弧;所述的灌注孔单元(3-2-1)为一半径为的柱形凸起,柱形凸起中贯通设置两个孔,其中一个孔的半径与灌注流道单元(3-1-4)中流道宽度大的端部半圆圆弧的半径相同,另一个孔的半径与灌注流道单元(3-1-4)中流道宽度小的端部半圆圆弧的半径相同;柱形凸起插入所述孔板(3-3)的孔单元中,且柱形凸起端面与孔单元底面留有空间,为待培养的物质提供培养空间;

所述的流道层(3-1)的灌注流道单元(3-1-4)、孔层(3-2)的灌注孔单元(3-2-1)和培养孔板(3-3)的孔单元对准;其中,第i行第j列的灌注流道单元(3-1-4)半径为的半圆圆弧和第(i+1)行第j列灌注孔单元(3-2-1)半径为的孔的下半圆弧对准,第i行第j列的灌注流道单元(3-1-4)半径为的半圆圆弧和第i行第j列灌注孔单元(3-2-1)半径为的孔的上半圆弧对准,灌注孔单元(3-2-1)半径为的柱形凸起和培养孔板(3-3)的孔单元对准。

2.根据权利要求1所述的一种三维流动培养装置,其特征在于,溶液通过液体入口(3-1-1)进入流道层(3-1),首先经过分流通道(3-1-2),然后通过第i行第j列个灌注流道单元(3-1-4)进入孔层(3-2),经灌注孔单元(3-2-1)上的大孔进入培养孔板(3-3)的一个孔单元中,最后由灌注单元(3-2-1)上的小孔流出孔层(3-2),回到流道层(3-1)中第i行第(j+1)列的灌注流道单元(3-1-4),最后经过液体流出通道(3-1-5),从液体出口(3-1-6)流出;灌注单元(3-2-1)上的小孔半径为,灌注单元(3-2-1)上的大孔半径为。

3.根据权利要求1所述的一种三维流动培养装置,其特征在于,孔层(3-2)的灌注孔单元(3-2-1)的设计方式为如下两种方式之一;

第一种:半径为的液体流入孔和半径为的液体流出孔的孔深相同,都等于半径为的柱形凸起高度和孔层底面厚度之和,即;

第二种:半径为的液体流入孔的孔深为,半径为的液体流出孔的孔深仅为;为流入孔高出柱形凸起的高度。

4.根据权利要求1所述的一种三维流动培养装置,其特征在于,灌注孔单元(3-2-1)中,参数表示培养孔板(3-3)两个相邻孔中心的距离,柱形凸起的半径比培养孔板(3-3)的孔半径大0.5至1毫米,液体流出孔半径略小于待培养物质的等效半径,小于培养孔板(3-3)孔的深度;同时,、、、和的选取需满足能使液体充分充满培养孔板(3-3)的孔内空间,且不产生紊乱的流动影响待培养物质的生长;、、、和的数值可通过流体力学仿真和实验测量进行选取和优化;的选取由通入液体的通量决定。

5.根据权利要求1所述的一种三维流动培养装置,其特征在于,流道层(3-1)可设计多个液体入口(3-1-1),其连接的分流通道(3-1-2)可根据实际需求设计复杂流道形状,将液体入口与不同的灌注流道单元(3-1-4)相连,实现向培养孔板(3-3)的不同孔单元中灌注不同种类或浓度的溶液;利用流体力学中集中参数模型仿真辅助设计灌注流道形状。

6.根据权利要求1所述的一种三维流动培养装置,其特征在于,培养孔板(3-3)为平底的细胞培养的384孔板,或者PCR 384孔板、96孔板或48孔板;流道层和孔层的设计尺寸依据孔板的尺寸进行选择和调整。

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