[发明专利]磁栅精度校准检测方法

权利要求书

1.磁栅精度校准检测方法，其特征在于；

磁栅精度校准检测装置，包括：

基座(100)，其上部布设有气浮导轨(1)；

气浮滑块(2)，其与所述气浮导轨(1)滑动连接；

所述基座(100)上形成有与所述气浮导轨(1)平行的用于容纳待检磁栅带(6)的导向槽(101)；

所述气浮滑块(2)装设有磁栅读数头(5)；以及

两个光栅带(3、11)，其装设在所述基座(100)上并对称地分布在所述导向槽(101)两侧，所述光栅带(3、11)的光栅读数头(4、12)设置于所述气浮滑块(2)上，从而驱动所述气浮滑块(2)使两个所述光栅带(3、11)形成第一基准轴线和第二基准轴线双基准校准所述待检磁栅带(6)；

两个所述光栅读数头(4、12)中心连线形成第一定位基准线A，所述磁栅读数头(5)的中心重合于所述第一定位基准线A；

该磁栅精度校准检测方法，包括以下步骤：

步骤一，提供所述待检磁栅带(6)；

步骤二，将所述待检磁栅带(6)铺满所述导向槽(101)，测量所述待检磁栅带(6)的实际物理长度为L₂；

步骤三，驱动所述气浮滑块(2)沿所述气浮导轨(1)位移，获取所述第一基准轴线和所述第二基准轴线；

步骤四，获取校核基准轴线长度；

根据公式：

其中，L₁为所述第一基准轴线的长度，L₄为所述第二基准轴线的长度，从而计算出所述校核基准轴线长度为L₃，从而在所述第一定位基准线A上获得L₃和L₂之间的阿贝臂为L₆。

2.根据权利要求1所述的磁栅精度校准检测方法，其特征在于；

所述导向槽(101)宽度方向与所述待检磁栅带(6)间隙配合，所述导向槽(101)底壁布设有用于吸附所述待检磁栅带(6)的负压吸附结构。

3.根据权利要求2所述的磁栅精度校准检测方法，其特征在于；

所述负压吸附结构包括沿所述导向槽(101)底壁长度方向开设的吸气孔(103)和布设在所述基座(100)内部并与所述吸气孔(103)连通的负压管路(102)；

所述负压管路(102)通过接头(10)与负压吸附系统气路连接。

4.根据权利要求1所述的磁栅精度校准检测方法，其特征在于；

所述基座(100)对应所述导向槽(101)两端均布设有能够旋转的收揽盘(9、13)，用于收纳所述待检磁栅带(6)，所述收揽盘(9、13)通过支架(8)与所述基座(100)固定连接。

5.根据权利要求4所述的磁栅精度校准检测方法，其特征在于；

所述导向槽(101)两端均装设有固定扣(7)，用于固定所述待检磁栅带(6)端部。

6.根据权利要求1所述的磁栅精度校准检测方法，其特征在于；

所述基座(100)为大理石工作台。

7.根据权利要求1所述的磁栅精度校准检测方法，其特征在于；

所述光栅带(3、11)为钢带光栅。

8.根据权利要求1所述的磁栅精度校准检测方法，其特征在于；

所述第一基准轴线和所述第二基准轴线、以及所述待检磁栅带(6)的实际物理长度的测量起点为所述第一定位基准线A；

其中，所述气浮滑块(2)行程末端为第二定位基准线B；

所述第一基准轴线和所述第二基准轴线、以及所述待检磁栅带(6)的实际物理长度的测量终点为所述第二定位基准线B。