[发明专利]渲染方法、装置、计算机设备及存储介质在审

专利信息
申请号: 202210168440.2 申请日: 2022-02-23
公开(公告)号: CN114549719A 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 冷晨 申请(专利权)人: 北京大甜绵白糖科技有限公司
主分类号: G06T15/00 分类号: G06T15/00;G06T17/00
代理公司: 北京中知恒瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 11889 代理人: 袁忠林
地址: 100080 北京市海*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 渲染 方法 装置 计算机 设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种渲染方法,其特征在于,包括:

获取目标对象的三维模型、以及所述三维模型的原始贴图;所述原始贴图包括:原始颜色贴图、原始阴影倾向贴图、以及原始光照贴图;

基于所述原始光照贴图、所述原始阴影倾向贴图、以及与所述三维模型对应的光照方向,生成所述三维模型的阴影颜色贴图;所述阴影颜色贴图用于描述所述三维模型的阴影渲染情况;

基于所述原始光照贴图、以及所述光照方向,生成所述三维模型对应的高光渲染贴图;所述高光渲染贴图用于描述所述三维模型的高光渲染情况;

以及,基于所述三维模型对应的虚拟相机方向、以及所述光照方向,确定所述三维模型对应边缘光渲染贴图;所述边缘光渲染贴图用于描述所述三维模型的边缘光渲染情况;

基于所述阴影颜色贴图、所述高光渲染贴图、所述边缘光渲染贴图、以及所述颜色贴图,对所述三维模型渲染,生成所述目标对象的目标渲染模型。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述原始光照贴图包括:原始阴影贴图;所述原始阴影贴图中的各个像素点的像素值,用于表征三维模型中与该像素点在所述三维模型中对应顶点的原始阴影程度信息;

所述基于所述原始光照贴图、以及与所述三维模型对应的光照方向,生成所述三维模型的阴影颜色贴图,包括:

基于所述三维模型、以及与所述三维模型对应的光照方向,确定与所述三维模型对应的光照模型;所述光照模型用于表征所述三维模型的多个顶点分别对应的阴影程度信息;

利用所述光照模型对所述原始阴影贴图进行光照方向的校正处理,得到所述三维模型的目标阴影贴图;

利用所述原始阴影倾向贴图对所述目标阴影贴图进行光影映射处理,得到所述三维模型对应的阴影颜色贴图。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述利用所述光照模型对所述原始阴影贴图进行光照方向的校正处理,得到所述三维模型的目标阴影贴图,包括:

利用所述光照模型中包括的多个顶点分别对应的阴影程度信息,对所述三维模型中各个顶点分别对应的原始阴影程度信息进行重映射处理,得到所述三维模型的中间阴影贴图;

将所述中间阴影贴图,作为所述目标阴影贴图,或者

对所述中间阴影贴图进行阴影范围的调整处理、阴影深度的校正处理、以及阴影颜色的校正处理中至少一种处理,得到所述目标阴影贴图。

4.根据权利要求2或3所述的方法,其特征在于,所述利用所述光照模型对所述原始阴影贴图进行光照方向的校正处理,得到所述三维模型的目标阴影贴图,包括:

将所述原始阴影倾向贴图重映射至所述中间阴影贴图,得到所述三维模型的阴影颜色贴图。

5.根据权利要求1-4任一项所述的方法,其特征在于,所述原始光照贴图,还包括:高光材质贴图、以及高光形状贴图;所述高光形状贴图用于描述所述目标对象进行高光渲染时的高光形状,高光材质贴图用于描述所述目标对象的各个部位的组成材质是否反光;

基于所述原始光照贴图、所述原始阴影倾向贴图、以及与所述三维模型对应的光照方向,生成所述三维模型的高光渲染贴图,包括:

基于所述三维模型对应的光照方向、以及所述三维模型对应的虚拟相机方向,确定所述三维模型对应的初始高光渲染信息;

基于所述高光材质贴图、所述高光形状贴图、以及所述初始高光渲染信息,生成所述高光渲染贴图。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述基于所述三维模型对应的光照方向、以及所述三维模型对应的虚拟相机方向,确定所述三维模型对应的初始高光渲染信息,包括:

确定所述三维模型中各顶点分别对应的法线方向;

针对任一所述顶点,基于所述三维模型对应的虚拟相机方向、光照方向以及该顶点对应的法线方向,确定该顶点对应的初始高光渲染信息;其中,所述初始高光渲染信息用于描述该顶点在所述虚拟相机方向和所述光照方向下的光照强度。

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