[发明专利]一种用于光固化3D打印的自修复有机硅光敏树脂在审
| 申请号： | 202210163193.7 | 申请日： | 2022-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN114539488A | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 陈佳达;吴晶军;陈孙松;石醒豪 | 申请（专利权）人： | 广东云兔科技有限公司 |
| 主分类号： | C08F283/12 | 分类号： | C08F283/12;C08F220/18;C08F220/28;C08G77/398;B33Y70/00 |
| 代理公司： | 广州润禾知识产权代理事务所(普通合伙) 44446 | 代理人： | 黄洁玲 |
| 地址： | 510000 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光固化 打印 修复 有机硅 光敏 树脂 | ||
1.一种用于光固化3D打印的自修复有机硅光敏树脂，其特征在于，所述的光敏树脂各组分及其含量如下：含有硼酸酯键的有机硅预聚物50-80份、活性稀释剂10-30份、紫外光引发剂0.1-5份及颜料0.01-0.5份；其中：含有硼酸酯键的有机硅预聚物由端氨基丙基聚二甲基硅氧烷与2,3,4-三羟基苯甲醛反应后，再与4-(2-甲基丙烯基)羰基氧基苯硼酸反应得到。
2.根据权利要求1所述的一种用于光固化3D打印的自修复有机硅光敏树脂，其特征在于，所述含有硼酸酯键的有机硅预聚物的结构式如下：
其中，n＝60-700。
3.根据权利要求1所述的一种用于光固化3D打印的自修复有机硅光敏树脂，其特征在于，所述的活性稀释剂为丙烯酸异辛酯、丙烯酸异癸酯、乙氧基乙氧基乙基丙烯酸酯、丙烯酸四氢呋喃酯中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的一种用于光固化3D打印的自修复有机硅光敏树脂，其特征在于，所述的紫外光引发剂为Irgacure 819、(2,4,6-三甲基苯甲酰基)二苯基氧化膦、安息香二甲醚、1-羟基环己基苯基甲酮中的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的一种用于光固化3D打印的自修复有机硅光敏树脂，其特征在于，所述的光敏树脂各组分及其含量如下：含有硼酸酯键的有机硅预聚物50-80份、活性稀释剂15-30份、紫外光引发剂1～3份及颜料0.1-0.2份。
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