[发明专利]用于检测打印机中的介质堵塞的方法、装置和系统在审

专利信息
申请号: 202210151144.1 申请日: 2022-02-14
公开(公告)号: CN114919299A 公开(公告)日: 2022-08-19
发明(设计)人: 张文伟 申请(专利权)人: 手持产品公司
主分类号: B41J11/00 分类号: B41J11/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 陈岚
地址: 美国南卡*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 检测 打印机 中的 介质 堵塞 方法 装置 系统
【权利要求书】:

1.一种用于检测打印机中的介质堵塞的装置,所述装置包括:

传感器单元,所述传感器单元被配置为定位在所述打印机的介质轴的下游并且靠近所述打印机的辊,其中所述传感器单元被配置为生成指示与所述辊的表面相关联的反射特性的传感器信号,并且其中所述传感器单元包括:

光发射器,所述光发射器被配置为在所述辊的所述表面上投射入射光;和

光检测器,所述光检测器被配置为响应于所述入射光而检测从所述辊的所述表面反射的光;和

处理器,所述处理器通信地耦接到所述传感器单元,其中所述处理器被配置为:

接收来自所述传感器单元的指示与所述辊的所述表面相关联的所述反射特性的所述传感器信号;

将所述反射特性和与所述辊相关联的阈值反射特性进行比较;以及

响应于所述比较结果,生成输出信号以指示是否发生了所述介质堵塞。

2.根据权利要求1所述的装置,其中所述输出信号对应于以下中的一者:

当所述反射特性超过所述阈值反射特性时,指示介质未能沿着所述打印机的介质路径成功通过的第一输出信号;和

当所述反射特性等于或低于所述阈值反射特性时,指示所述介质沿着所述介质路径成功通过的第二输出信号。

3.根据权利要求1所述的装置,其中所述辊的所述表面对应于所述辊的未阻塞表面和所述辊的阻塞表面中的一者。

4.根据权利要求1所述的装置,其中所述处理器被进一步配置为:

当所述反射特性超过所述阈值反射特性时,生成第三输出信号以停止从所述打印机的所述介质轴供应介质。

5.根据权利要求1所述的装置,其中所述阈值反射特性基于所述辊的表面特性来确定。

6.根据权利要求1所述的装置,所述装置还包括突出部,所述突出部可操作地耦接到所述传感器单元并且被配置为基于介质的表面特性而促进所述传感器单元相对于所述辊的位置的调整,所述介质被配置为由所述打印机的所述介质轴供应。

7.一种打印机,所述打印机包括:

介质轴,所述介质轴被配置为沿着介质路径供应介质;

辊,所述辊沿着所述介质路径定位在所述介质轴下游,其中所述辊被配置为使所述介质沿着所述介质路径行进;

传感器单元,所述传感器单元被配置为定位在所述介质轴的下游并且靠近所述辊,其中所述传感器单元被配置为生成指示与所述辊的表面相关联的反射特性的传感器信号:和

处理器,所述处理器通信地耦接到所述传感器单元,其中所述处理器被配置为:

接收来自所述传感器单元的指示与所述辊的所述表面相关联的所述反射特性的所述传感器信号;

将所述反射特性和与所述辊相关联的阈值反射特性进行比较;以及

响应于所述比较结果,生成输出信号以指示是否发生了介质堵塞。

8.根据权利要求7所述的打印机,其中所述输出信号对应于以下中的一者:

当所述反射特性超过所述阈值反射特性时,指示所述介质未能沿着所述打印机的所述介质路径成功通过的第一输出信号;和

当所述反射特性等于或低于所述阈值反射特性时,指示所述介质沿着所述介质路径成功通过的第二输出信号。

9.根据权利要求7所述的打印机,其中所述传感器单元包括:

光发射器,所述光发射器被配置为在所述辊的所述表面上投射入射光;和

光检测器,所述光检测器被配置为响应于所述入射光而检测从所述辊的所述表面反射的光。

10.一种检测打印机中的介质堵塞的方法,所述方法包括:

通过所述打印机的处理器,使所述打印机的传感器单元生成指示与所述打印机的辊的表面相关联的反射特性的传感器信号,其中所述传感器单元定位在所述打印机的介质轴的下游并且靠近所述辊;

通过所述处理器接收来自所述打印机的所述传感器单元的所述传感器信号;

通过所述处理器将所述反射特性和与所述辊相关联的阈值反射特性进行比较;以及

响应于所述比较结果,通过所述处理器生成输出信号以指示是否发生了所述介质堵塞。

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