[发明专利]一种立体抛釉瓷砖的镀金工艺

权利要求书

1.一种立体抛釉瓷砖的镀金工艺，其特征在于，包括以下步骤：

在砖坯表面制作图案层，然后在图案层上铺撒熔块粉，经过第一次烧结形成透明层，透明层经过抛光、清洗后，再在透明层表面部分施加凸釉料，然后进行第二次烧结，经过第二次烧结后，凸釉料形成凸起，再在凸起部分或透明层表面涂覆涂料，形成涂料层，再进行整体镀金，获得镀金层，最后用溶剂清洗涂料层，即制得所述立体抛釉瓷砖；

所述熔块粉，包括SiO₂、MgO、Al₂O₃、K₂O、Fe₂O₃、Na₂O、CaO、ZnO、BaO、ZrO₂、B₂O₃；

所述凸釉料，包括Al₂O₃、SiO₂、Fe₂O₃、CaO、MgO、K₂O、Na₂O、TiO₂、SrO、Rb₂O、Li₂O、PbO、ZnO、B₂O₃、BaO、ZrO₂、P₂O₅、CdO。

2.根据权利要求1所述的镀金工艺，其特征在于，所述熔块粉，按重量份数计，包括55-65份的SiO₂、0.2-0.3份的MgO、8-9份的Al₂O₃、2-4份的K₂O、0.1-0.2份的Fe₂O₃、1-2.9份的Na₂O、2-3份的CaO、2.5-4份的ZnO、2.5-4份的BaO、0.1-0.5份的ZrO₂、1.2-20份的B₂O₃。

3.根据权利要求1所述的镀金工艺，其特征在于，所述凸釉料，按重量份数计，包括1-1.5份的Al₂O₃、16-20份的SiO₂、0.01-0.05份的Fe₂O₃、0.01-0.1份的CaO、0.001-0.01份的MgO、1-1.5份的K₂O、0.5-1份的Na₂O、20-22份的TiO₂、0.001-0.01份的SrO、0.01-0.1份的Rb₂O、0.1-0.5份的Li₂O、30-42份的PbO、1-2份的ZnO、8-15份的B₂O₃、0.001-0.01份的BaO、0.001-0.01份的ZrO₂、0.01-1份的P₂O₅、2-3份的CdO。

4.根据权利要求1所述的镀金工艺，其特征在于，所述第一次烧结的温度为700-1200℃，第一次烧结的时间为0.5-4小时。

5.根据权利要求1所述的镀金工艺，其特征在于，所述清洗是采用超声波进行清洗，发出超声波的设备的工作电流为3-7安倍。

6.根据权利要求1所述的镀金工艺，其特征在于，所述第二次烧结的温度为500-650℃，第二次烧结的时间为0.5-5小时。

7.根据权利要求1所述的镀金工艺，其特征在于，所述镀金使用的金属选自钛金、钛银、镐、铜、铂金、锌中的任意一种。

8.根据权利要求1所述的镀金工艺，其特征在于，所述镀金产生的镀金层在凸起部分和/或透明层表面。

9.权利要求1-8任一项所述的镀金工艺制得的立体抛釉瓷砖在装饰领域中的应用。

10.根据权利要求9所述的应用，其特征在于，所述应用包括在室内或室外的应用，所述室内包括家庭、办公室、会展中心。