[发明专利]屏蔽式旋转流体机械

权利要求书

1.一种屏蔽式旋转流体机械，其特征在于，包括：

壳体，所述壳体限定出连通的第一腔室和第二腔室，所述第一腔室位于所述第二腔室上方，所述第一腔室内填充有第一流体介质，所述第二腔室内填充有第二流体介质，所述第二流体介质密度比所述第一流体介质密度大一个数量级以上，所述壳体设有与所述第二腔室连通的第一流动孔和第二流动孔，所述壳体还设有与所述第一腔室连通的第三流动孔；

转轴，所述转轴的至少部分结构设于所述第一腔室内，所述转轴的下端设有叶轮，所述叶轮位于所述第二腔室内；

电机转子与定子，所述电机转子与所述定子设于所述第一腔室内，且所述电机转子套设于所述转轴，所述定子套设于所述电机转子外侧；

压力调节阀，所述压力调节阀与所述第三流动孔连接，所述压力调节阀用于调节所述第一腔室内的所述第一流体介质的压力，以控制所述第一流体介质与所述第二流体介质分界面的高度；

所述壳体包括：壳本体和分隔板，所述壳本体限定出安装空间，所述分隔板设于所述安装空间内且将所述安装空间分隔为所述第一腔室和所述第二腔室，所述分隔板设有与所述叶轮对应的隔板开孔，所述第一流动孔、所述第二流动孔和所述第三流动孔均设于所述壳本体；

所述转轴的上端设有散热风扇；

所述转轴、所述电机转子、所述定子和所述叶轮均设于静密封的所述壳体内；

所述壳体为压力容器。

2.根据权利要求1所述的屏蔽式旋转流体机械，其特征在于，所述第一流体介质为气体，所述第二流体介质为液体或超临界流体。

3.根据权利要求1或2所述的屏蔽式旋转流体机械，其特征在于，所述第一流体介质不溶于所述第二流体介质且不与所述第二流体介质发生化学反应。

4.根据权利要求1所述的屏蔽式旋转流体机械，其特征在于，所述第二流体介质适于流入所述第一腔室内，在所述第一腔室内，所述第一流体介质与所述第二流体介质分界面高度小于所述第一腔室高度的1/3。

5.根据权利要求4所述的屏蔽式旋转流体机械，其特征在于，还包括：分界面检测装置，所述分界面检测装置用于检测所述第一流体介质与所述第二流体介质分界面的高度。

6.根据权利要求5所述的屏蔽式旋转流体机械，其特征在于，还包括：套筒，所述套筒设于所述第一腔室的下端且套设于所述转轴外侧，所述套筒与所述转轴间隔开，在所述第一腔室内，所述第一流体介质与所述第二流体介质分界面高度小于所述套筒高度。

7.根据权利要求1所述的屏蔽式旋转流体机械，其特征在于，所述壳体还包括：安装架，所述安装架设于所述第一腔室内，所述转轴和所述电机转子及所述定子设于所述安装架内，所述安装架和所述壳本体间限定出安装腔，所述安装腔内设有冷却装置，所述冷却装置用于冷却所述安装架内的所述第一流体介质。

8.根据权利要求7所述的屏蔽式旋转流体机械，其特征在于，还包括：轴承组件，所述轴承组件设于所述安装架与所述转轴之间。