[发明专利]一种低光泽细腻磨砂效果面的陶瓷岩板及其制备方法

权利要求书

1.一种低光泽细腻磨砂效果面的陶瓷岩板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：

将岩板基料压制成砖坯；

在砖坯表面施面釉；

在施面釉后的砖坯表面喷墨打印设计图案；

在喷墨打印设计图案后的砖坯表面施包含高温透明干粒的哑光透明干粒釉；

在施哑光透明干粒釉后的砖坯表面施哑光保护釉；

将施哑光保护釉后的砖坯烧成并抛刷砖面，得到所述低光泽细腻磨砂效果面的陶瓷岩板。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高温透明干粒的化学组成包括：以质量百分比计，SiO₂：56～59%、Al₂O₃：20～22%、碱土金属氧化物：12.0～17.0%、碱金属氧化物：4.0～8.0%、ZnO：2.0～4.0%。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述哑光透明干粒釉的高温透明干粒的颗粒级配包括：以质量百分比计，200目以下：3～5%、200-250目：15～20%、250-325目：40～60%、325目以上：20～40%。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述哑光透明干粒釉的施加方式为淋釉，比重为1.10～1.13g/cm³，施釉量为375～420 g/m²。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述哑光保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO₂：49～52%、Al₂O₃：19～21%、碱土金属氧化物：14.5～19.5%、碱金属氧化物：5.0～9.0%、ZnO：5～7%。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述哑光保护釉的施加方式为喷釉，比重为1.25～1.30 g/cm³，施釉量为125～170 g/m²。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述高温透明干粒的始融温度为900～950℃，所述哑光保护釉的始融温度为850～900℃；优选地，所述高温透明干粒的始融温度高于哑光保护釉。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的制备方法，其特征在于，采用研磨刷抛刷砖面；所述研磨刷的主要材料为树脂和碳化硅组成的有机无机复合材料。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，采用研磨刷抛刷砖面的压力≤0.2MPa。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的制备方法获得的低光泽细腻磨砂效果面的陶瓷岩板，其特征在于，所述陶瓷岩板的表面光泽度为3-5度。